二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261411 待售

LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus是一種高性能等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器設備，用於低溫氧化物和高溫氮化物膜的沈積。它允許沈積各種厚度和密度的微米和亞微米級層，在大晶圓尺寸上具有極好的均勻性。該系統基於標準的LAMNOVELLUS PECVD工藝，這是一種高頻、高占位周期脈沖工藝，配置為高通量，氧化膜的沈積時間為毫秒，氮化物膜的沈積時間為亞毫秒。NOVELLUS Altus反應堆通過其專有的等離子體增強化學氣相沈積（起飛）技術改進了這一過程。該單元采用獨特的多脈沖機制，對從腔室供應的反應物產生可重復的等離子體增強反應，產生均勻性極佳、保形性突出的薄膜。LAM RESEARCH Altus反應堆還具有專有的高級等離子體隔離功能，可在廣泛的基板上保持穩定的工藝窗口。這些新的隔離系統有助於減少失控反應，消除整個晶片的溫度變化，從而實現更好的薄膜厚度均勻性和更少的工藝偏移。機器的模塊化設計允許用戶在氧化物和氮化物模式之間快速變化，並調整氣流和脈沖參數來修改薄膜特性。高度通用的Altus工具還為高級沈積監測提供了多種選擇，包括非接觸式反射率和直接寫入激光反射率。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus附有電腦控制的環境管理資產，以確保流程的品質與一致性。低頻噪聲通過先進的隔離系統最小化，操作員界面使模型操作簡單高效。該設備可用於從MEMS到平板顯示器的廣泛應用，適用於工具和研究應用。