二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261430 待售
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LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一種物理氣相沈積（PVD）原子源反應器。該設備旨在提供對薄膜沈積速率、溫度、壓力和其他工藝條件的精確控制，從而確保在基材上均勻、精確的塗層。它配備了低功率、高密度的離子源，允許薄膜層在基板上的精確沈積。該系統包括高分辨率離子源、用於將等離子體和基板結合在一起的等離子體加工室以及控制加工條件的電源。高分辨率光源能夠產生高電流密度，使薄膜的沈積得到控制和均勻。作為單元心臟的等離子體處理室允許產生低功率、高密度的等離子體。這種等離子體對於薄膜在低溫下的精確沈積是必需的，從而導致低材料消耗和更好的電氣、光學和機械性能。該機還包括幾個技術部件，如基板固定環、加熱器、冷卻部分和離子驅動的預整形單元。基板固定環有助於在聚氯乙烯工藝開始之前對基板材料進行定位和預處理。工具的加熱部分移動迅速，加速了薄膜的沈積過程，而冷卻部分則有助於在整個PVD沈積過程中保持均勻的溫度。此外,預成型單元位於基板固定環和聚氯乙烯腔室之間,有助於創建具有所需厚度和組成的精確層。資產可以加工鋁、銅、矽和玻璃等多種不同的基材。此外，該模型能夠沈積許多不同類型的材料，包括鉻、鋁、鈦和鎢。NOVELLUS Altus PVD設備對於為當今先進電子設備的關鍵組件創建精確、均勻和適當的薄膜層至關重要。材料在基板上的準確沈積保證了零件和產品的質量，確保了可靠有效的性能。該系統擁有豐富的技術成分，非常適合在各種溫度和工藝條件下制作精確的薄膜。
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