二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9271265 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一種用於半導體制造過程的熱化學氣相沈積（CVD）反應器。其設計提供高精度、低溫過程、超低壓操作。NOVELLUS Altus利用渦扇泵來實現卓越的沈積均勻性和參數重復，而犧牲了更高的功耗。為了滿足需要更高沈積速率的薄膜應用，LAM RESEARCH Altus使用石英船將兩個熱CVD源結合在一起，以便可靠地沈積保形薄膜。這種CVD源的組合產生350°C至575°C的溫度範圍以及0.1°C的精確溫度控制。此外,Altus還配備了獲得NOVELLUS專利的薄膜源噴嘴,其設計目的是在廣闊的區域內產生均勻性的沈積。可將工藝壓力從10 Torr調整為1 Torr,以獲得最佳薄膜效果。LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus設計用於在廣泛的基板上運行,並提供將材料沈積到大面積基板上的能力。薄膜沈積可以通過可變沈積速率控制以及在主源和基板之間包括可調節的偏置電壓來進行微調。其設計包括一個無空隙電壓植入窗口，並被封閉在石英管中，以進行有效的真空控制。為了確保加工零件的一致性和均勻性,NOVELLUS Altus配備了線性電機執行器,可在垂直和水平方向精確移動腔室附件,分辨率為0.5 µm。此外,LAM RESEARCH Altus還包括LabVIEW Graphical Development Environment及其自定義腳本語言,可實現自動化、準確和可重復的過程控制。Altus是一種可靠、高效的沈積CVD反應器，可以最佳地將薄膜層加工到多種底物上。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus憑借其高精度的熱控制、超低壓操作和可調節的工藝參數，為制造商提供打造高品質產品所需的精度和性能。