二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel-X #9293855 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Seque-X是半導體反應堆設計中的先進概念。它是一種獨特的等離子體蝕刻工具，它結合了傳統等離子體蝕刻的功率和能力以及獨特的無障礙蝕刻工藝。這使得它非常適合滿足要求最苛刻的高密度高密度器件制造要求。它還提供了前所未有的過程靈活性和可擴展性。NOVELLUS Concept 2 Sequel-X反應堆的設計提供了不同尋常的特性和靈活性的平衡組合-具有良好的蝕刻能力和改進的多種工藝能力。它具有雙頻等離子體能力，允許對侵蝕性離子與那些能夠提供更均勻蝕刻並改進對蝕刻深度和形狀的控制的侵蝕性離子進行分離處理。因此,它的用途極為廣泛,而且非常適合不同的應用以及一系列的金屬和介電表面。Seque-X反應堆配備了專有的冷卻技術，可以設置來處理高達400 °C的底物溫度。這種尖端的熱管理確保了整個腔室的溫度分布平衡，消除了熱點和熱邊緣。它還允許延長生產運行時間、提高生產率以及提高工藝產量。LAM RESEARCH Concept 2 Seque-X的其他一些關鍵特性包括其獲得專利的雙磁場發生器，能夠獨立控制離子密度和能量分布；其整體浮動端板設計，穩定等離子體分布，最大限度地減少整個腔室的變化；以及它的高頻射頻發生器，允許將蝕刻速率提高到2 µm的矽。綜上所述，Concept 2 Sequel-X是真正革命性的反應堆設計，提供突破性的過程靈活性和可擴展性，適合最苛刻的應用。其先進的冷卻技術、雙頻等離子體、雙磁場發生器、集成浮動端板設計以及高頻射頻發生器，使其能夠滿足最嚴格的光刻要求，同時提供前所未有的工藝效率。