二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251473 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel是一款高性能的電子束光刻（EBL）設備，用於創建用於精密制造的納米級圖案。該系統有能力創建極其精確的模式，適合廣泛的工藝，包括半導體器件制造、計算機內存生產和顯示器制造。NOVELLUS Concept 2 Sequel是基於電子束光刻（EBL）的概念，這是一個利用電子束在基板上精確圖樣的過程。光刻是通過在基板上施加圖樣遮罩，並在圖樣所需的位置精確移動電子束來完成的。在LAM RESEARCH Concept 2 Sequel中，電子束通過對電子束的運動應用數字信號處理來進行數位控制，以便將電子束精確定位在樣品上。這種對光束位置的嚴密控制，結合同步光學單元的精確度，使Concept 2 Sequel實現了納米級分辨率。LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel還結合了幾個功能來提升吞吐量和產量。電子源和加熱元件、束電流和能量調節以及防止過度暴露造成事故的互鎖和安全系統等特點，成功地提高了產生所需圖樣的速率。NOVELLUS Concept 2 Sequel還能夠進行各種曝光時間和模式密度控制，使設備能夠靈活處理不同類型的應用。機器的另一個關鍵特性是冗余EBL功能,它能夠在兩個不同的梁「頭」之間快速切換,從而使刀具的工作效率提高一倍。此外，該資產被設計為適合一系列潔凈室設施，可以很容易地與其他生產系統集成，以最大限度地提高效率。總體而言，LAM RESEARCH Concept 2 Sequel是一種高度可靠且用途廣泛的EBL模型，能夠準確、精確地制作納米級圖案。對於任何需要高性能、高精度的半導體器件制造和其他電子生產技術的設施來說，它都是必不可少的工具。