二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251475 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel是一種用於化學氣相沈積（CVD）的半導體制造的反應堆。它由兩個主要組成部分：工藝室和遠程維護模塊（RMM）。加工室是主要的加工單元，其設計目的是優化所需材料在基板上的沈積。RMM是負責維護的設備的一部分，包括清洗和校準工藝室。該工藝室設有單晶片、石英淋浴頭和氣體分配板。石英噴頭提供均勻的氣體分布，使材料均勻沈積到基板上。氣體分配板能夠將所需的氣體精確供應到加工室的源側。這允許控制源氣體的濃度和反應氣氛的均勻性。NOVELLUS Concept 2 Sequel也有兩種不同的均勻性控制系統。第一個系統是工藝溫度均勻性單元（PTUS），用於監測和調節CVD生長過程中工藝室的溫度。第二臺機器是氣體均勻性工具（GUS），用於控制源氣體的輸送，實現精確的氣體均勻性。LAM RESEARCH Concept 2 Sequel的RMM包含隔離閥監測、壓力控制管理、泵速調節等一系列自動化維護功能。這些維護功能允許改進過程控制和可靠性。RMM還配備了集成渦輪分子泵，用於維持低工藝室壓力。概念2續集有G2和G3兩種不同的尺寸。這兩個反應堆的設計都是為了生產半導體工業所必需的高質量材料。它們還具有先進的自動化和集成的氣體輸送系統,可實現精確、可重復的處理。LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel可用於外延、金屬沈積、氧化物和氮化物等多種CVD應用。