二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293618240 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus矢量反應器（AVR）是一種先進的薄膜沈積和非soc底物蝕刻工具。它是一個高容量、高性能的反應堆，提供精確、快速和高度可重復的處理。它能夠以一微米的分辨率蝕刻基板，允許增加密度和更小的特征尺寸。AVR利用基於物理氣相沈積（PVD）、化學氣相沈積（CVD）、電子束感應蝕刻（EBID）和電化學電鍍（ECP）的自動化連續真空過程。這種獨特的技術組合增強了材料沈積和蝕刻過程的均勻性和控制力。PVD和CVD工藝的結合有助於減少不良的氧化化合物，並允許沈積具有高均勻性和準確性的復雜多層結構。ECP工藝使電化學電鍍材料具有高分辨率和高速度.此過程通常用於集成電路級功能或MEM級功能。最後，EBID工藝用於具有優異形態學控制和均勻性的蝕刻材料，使蝕刻特征具有較高的可靠性和精度。AVR擁有晶圓處理和過程交付的通用平臺，使其成為多種應用的理想工具。它利用先進的真空技術和輔助工藝，如惰性和反應性氣體凈化，提供清潔的工藝環境，減少汙染。單片卡帶處理系統允許精確放置多個用於執行實時過程控制的「金」片。此外，AVR擁有廣泛的食譜，便於制作精密的結構，具有精確的蝕刻、精確的重復性和對蝕刻速率、均勻性和特征大小的精確控制。總體而言，AVR為薄膜的蝕刻和沈積提供了可靠和精確的工藝。它結合了先進的工藝、精確的晶圓處理和多用途的配方設計，使其成為各種應用的絕佳工具，從MEM到大規模處理。
還沒有評論