二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT One-150 #293821999 待售

ID: 293821999
晶圓大小: 6"
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) system, 6".
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150是一種多室反應器,設計用於半導體工業中薄膜材料的高通量沈積。它以4800 x 2400 mm的占地面積提供多達150個工藝室,提供業界領先的沈積吞吐量速度、高工藝一致性和優化的設備配置。NOVELLUS CONCEPT One-150反應堆基於明暗交替室多室配置的概念,暗室充當緩沖和反應物室。緩沖室用於通過允許過程種類在整個腔室中均勻積累和流動來維持過程均勻性。反應物室提供了薄膜沈積層所需的額外反應物種類。NOVELLUS反應堆具有幾種先進的處理能力。這些包括高達1100 °C的高溫處理和高達1000 mTorr的壓力範圍。這提供了以更高的速度和更高的精度處理材料的機會。此外,該系統還具有高通量的薄膜沈積工藝。該單元還包括一個集成的控制機器,允許快速設置,驗證和配方管理。控制工具包括用於快速參數設置的直觀圖形用戶界面(GUI),以及詳細的配方管理、流程跟蹤和操作員日誌記錄。這樣可以確保整個生產運行過程中的工藝參數保持一致並受到控制。除了沈積能力外,LAM RESEARCH CONCEPT One-150反應堆還提供多種其他處理能力。這種反應器也可用於用濕化學蝕刻和離子註入技術處理晶片。此外,機器人資產允許快速和安全的基板轉移,以及適應、分類和定位的過程。最後,CONCEPT One-150反應堆被設計為一個開放的平臺,為用戶提供了易於集成到工廠自動化系統。這確保了反應堆能夠集成到完全自動化的生產線中,而不會造成最小的中斷。LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150反應堆具有先進的加工特點、高通量速度和集成控制模型,是半導體工業中薄膜沈積的理想工具。
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