二手 LAM RESEARCH Sabre 3D #9300020 待售
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已售出
ID: 9300020
晶圓大小: 12"
優質的: 2014
Cu plating system, 12"
(3) FOUPs
(2) Standard front and central robots
(2) Handler systems
Chemical analyzer
Chiller
(4) Duets
(3) Baths
CIM: GEM/SECS
2014 vintage.
LAM RESEARCH Sabre 3D是一種三維感應耦合反應濺射沈積室,旨在提供薄膜的精確濺射沈積。Sabre 3D獨有的高效密度控制機制,使得精確厚度和成分的顆粒能夠沈積,從而對薄膜沈積進行更大的控制。LAM RESEARCH Sabre 3D強大的感應耦合等離子體(ICP)源造成了強烈的能量場,導致粒子以高速率從目標材料中濺射。這保證了薄膜沈積的一致性和均勻性,使塗層性能極佳。Sabre 3D有兩個獨立的等離子體源,一個安裝在下腔,另一個安裝在上腔,允許材料在同一運行中沈積在兩個基板上。與傳統濺射系統相比,其主要優點是沈積速率更高,均勻性提高,排便率降低。除了提供高速率沈積,LAM RESEARCH Sabre 3D還提供卓越的表面制備和蝕刻能力。網狀陰極和創新的燈絲幾何形狀為等離子體蝕刻創造了一個強烈的領域,從而產生了優越的表面制備和改進的膜均勻性。Sabre 3D還可用於沈積前蝕刻基板,從而提高生產率和改進工藝控制。LAM RESEARCH Sabre 3D還附帶了先進的過程監控功能。它配備了一個先進的控制系統,可以不斷監測工藝參數,從而能夠更好地控制薄膜沈積的這一關鍵步驟。過程控制工具如過程調整、自動化過程控制和統計過程控制(SPC)也很容易獲得。總體而言,Sabre3D是一種高度通用和高效的感應耦合反應濺射沈積室,旨在提供薄膜的精確濺射沈積。其先進的工藝監測和控制能力,優越的表面制備和蝕刻能力,以及卓越的速率沈積,使其成為要求苛刻的薄膜沈積應用的絕佳選擇。
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