二手 LAM RESEARCH Sabre #9167356 待售

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製造商
LAM RESEARCH
模型
Sabre
ID: 9167356
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
Advanced wafer-level packaging system, 12" Software OS: Window Equipment status: In-line Type: Non-SMIF Automation online component: SECE Wafer type: Notch at 6 o'clock In-line flow: Left Software: Y2K Completion: Yes WL & RL: RL Type: Left PPD Type: PPD2 Laser: Vender: Other Chuck: Ring 2012 vintage.
LAM RESEARCH SABRE是一種等離子體蝕刻反應器,旨在提供先進的等離子體蝕刻溶液。該系統是業內首批在同一臺機器中同時提供低壓和高壓等離子體工藝的系統之一,使客戶既節省時間又節省金錢。高壓蝕刻工藝是接觸和金屬蝕刻等應用的理想選擇,低壓工藝是介電材料蝕刻的理想選擇。反應堆是一個成品幹蝕刻器,這意味著它可以提供低壓和高壓蝕刻過程,而不需要任何額外的氣體分配系統(GDS)。SABRE在所有級別的晶片上提供了出色的一致性,確保了更高的產量和最高質量的零件。它還具有轉角四重奏技術,該技術提供了比大型幾何更高的產品質量,並且具有最小的工藝步驟。LAM RESEARCH SABRE還提供快速蝕刻速率、出色的過程控制和可重復性、內置過程數據庫支持以及在短短幾分鐘內校準不同配方的功能。反應堆還提供了與iMap等Fab級自動化系統的完全集成,這使得該系統成為自動制造的完美選擇。SABRE的內置軟件以及單片加載(SWL)功能,允許高吞吐量和靈活性,更易於設置和操作。SWL功能使用戶可以選擇合適的蝕刻室溫度、目標壓力、預填充氣體流量以及工藝配方。這樣可以節省用戶寶貴的時間並消除手動操作。LAM RESEARCH SABRE旨在提高工藝可靠性、穩定性和生產率。它提供快速的工具啟動時間和強大的配方,使用戶能夠提高生產效率和降低成本。集成過程數據庫、自動化配方開發、角四方技術使系統易於使用、可靠、靈活。它是任何等離子體蝕刻需求的絕佳選擇。
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