二手 LAM RESEARCH Sabre #9200240 待售

LAM RESEARCH Sabre是由LAM RESEARCH為半導體應用目的而打造的高性能等離子蝕刻設備。該系統利用獨特的多模式工藝室提供更大的蝕刻靈活性,使客戶能夠獲得更好的蝕刻深度和更高的工藝選擇性。佩刀加工室采用先進的中空陰極設計，針對蝕刻進行了優化。它旨在提供高蝕刻速率、均勻的蝕刻輪廓和出色的選擇性。該單元配備了一個強大的射頻發生器，使用戶能夠快速設置和調整他們所需的蝕刻輪廓的參數。該機可進行調諧，為各種蝕刻配方提供最佳性能。用戶還可以根據需要從各種室內配置中進行選擇。該工具可配置單一或雙氣體淋浴頭,使客戶能夠為其特定應用程序選擇最佳選項。LAM RESEARCH Sabre工藝室還利用LAM RESEARCH SureGrip™技術，實現精確的蝕刻控制和可重復性。該腔室還裝有一個主動等離子體準直器，允許提高蝕刻均勻性和過程可重復性。此外，Sabre資產還包括流程控制軟件，幫助用戶快速實現性能目標。LAM RESEARCH Sabre模型可用於各種蝕刻過程，包括高縱橫比特征的深淺蝕刻。它是微型化超小型特征的理想選擇，可用於幹蝕刻或光刻蝕刻。該設備還具有低氣體流動能力，使用戶能夠以最低的氣體消耗進行蝕刻。總體而言，LAM RESEARCH的Sabre反應堆是一個功能強大的蝕刻系統，具有優異的蝕刻性能和可靠性。其廣泛的可配置性和功能使其成為許多半導體工藝的絕佳選擇,為用戶提供了滿足其需求的有效解決方案。