二手 LAM RESEARCH STRATA-GX #293626279 待售

LAM RESEARCH STRATA-GX是一種高性能的感應耦合等離子體反應器，旨在為各種底物提供先進的蝕刻加工能力。燃燒室結構和組件的反應堆組合使得可重復、高密度的等離子體（HDP）處理能夠提高工藝速率。STRATA-GX反應器為包括MEMS、深矽、生物醫學和平板顯示應用在內的多種應用提供幾何上均勻、具有低基板失真的高速蝕刻。該反應堆結合了多點敏感器、三區線性感應耦合等離子體（LICP）源和均勻的輸電系統，從而在各種工藝流程和多重蝕刻速率中產生可重復的結果。LAM RESEARCH STRATA-GX旨在通過在寬廣的工藝窗口中提供卓越的均勻性,進一步減少等離子體損傷並優化蝕刻工藝。STRATA-GX反應堆的設計允許廣泛的過程參數，包括等離子體密度控制、定制壓力剖面、多等離子體定時、多點均勻性和功率控制。這種靈活性使用戶能夠優化蝕刻性能,並從高級工藝控制中受益。LAM RESEARCH STRATA-GX針對等離子體化學相互作用進行了優化，有助於減少顆粒形成和蝕刻損傷。該反應器具有優化的脈寬調制控制功能，能夠控制反應物和產物氣體。PWM特性進一步控制了反應物的流動性，並允許更大的均勻性和更少的邊緣偏置蝕刻。STRATA-GX還具有先進的孔徑系統,允許在基板上放置較大的孔徑,以確保在較高的蝕刻速率下具有更大的均勻性。開孔系統還有助於提高蝕刻選擇性，因為一種材料的蝕刻速率高於另一種材料。LAM RESEARCH STRATA-GX反應堆為大批量器件生產提供了無與倫比的吞吐量，也向後兼容了大多數現有蝕刻加工元件。STRATA-GX是希望在蝕刻生產能力方面獲得競爭優勢的設備工程師的理想工具。