二手 LEVITECH Levitrack G3 #9246559 待售
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ID: 9246559
ALD System
Segments:
Heat-up segment
(6) Al2O3 Process segments
Cool-down segment
Loading and unloading unit for 100 wafer cassettes
Wafer carrier cassettes for 100 wafers
Wafer:
Size: 156.75 x 156.75 mm
Thickness range: 120-250 μm
Shape square / Semi-square
Main process:
Al2O3 Layer thickness: 1 to 6 nm
Throughput: 3600 Wafers per hour
Up time: 95%
Thickness uniformity within wafer: ≤ 3%
Thickness uniformity wafer to wafer: ≤ 3%
Thickness uniformity run to run: ≤ 2%
Wafer breakage rate: ≤ 0.002%
Projected cell performance:
PERC, P-Type mono, average: > 21.4%
PERC, P-Type multi, average: > 19.8%
Bi-facial, n-type mono: > 24.5%
Power peak: 33 kW
Power average: 8 kW
Power requirements: 400 VAC (3 PH+N+PE), 50/60 Hz.
LEVITECH Levitrack G3是一個為用戶提供最高精度和效率水平的反應堆。該反應器設計獨特，具有多級徑向流動模式，可產生高效均勻的湍流，優化反應性能。通過精確控制反應物流體的速度，這種多級徑向流動使反應堆達到了當今工業中無與倫比的反應性能水平。Levitrack G3是一種實心容器，有一個圓柱體，由兩條腿支撐。圓柱體包含一個頂部反應器頭、底板和一個中間環形擋板，該擋板將容器分成上下兩個腔室。容器內部有兩個同心軸向擋板，為反應物提供了有效的流動模式。壁掛式攪拌機或渦輪機確保反應堆內反應物的均勻分布和流動性。頂部反應堆頭有一個定制設計的蓋子，提供進入反應堆內部部件的通道。LEVITECH Levitrack G3反應堆由高品位不銹鋼構成，設計為承受特定溫度和壓力。反應堆設計符合最嚴格的安全和環境標準，並配有聚酰亞胺絕緣內襯，提供出色的隔熱性能。反應堆還配備了先進的安全系統，以防止意外超壓和低壓。Levitrack G3反應堆效率高，提供用戶控制的反應溫度、壓力、停留時間和反應物比。該反應器在減少的反應時間下產生一致的高產率，可用於從合成單體到大規模制造聚合物等多種應用。它提供了卓越的準確性和控制性,最大限度地降低了原材料成本,並最大限度地提高了產品產量。LEVITECH Levitrack G3反應堆是先進化學加工應用的理想選擇。其獨特的設計和工程使其高效，嚴謹的安全和環境標準使其成為尋求可靠性能、最大控制和高產率者的理想選擇。
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