二手 NOVELLUS Altus Chamber #9204833 待售

NOVELLUS Altus Chamber是一個革命性的蝕刻反應堆，設計用於在芯片鑄造廠的半導體制造單元（Fabs）中執行高質量的工藝。該反應堆能夠提供最佳蝕刻參數，以制造更復雜、更小的芯片，尺寸從0.21到65nm不等。該腔室的特點是其完全對稱的設計，確保蝕刻結果在所有晶片表面的均勻性，無論其方向如何。這種對稱的設計以電磁場技術為動力，能夠保持恒定的蝕刻速率。Altus Chamber的優點是：吞吐量高，擁有成本低，適應性強。它配備了最新的等離子體源和控制器，能夠生產具有高均勻性和性能的低功率蝕刻--效率高達400晶圓/小時，多氯聯苯蝕刻率降低30%以上。腔室可以配置為同時處理多種類型的晶片，這使得它非常適合多應用生產。此外，該室符合國際標準，室內壓力和溫度可隨時精確監測。該室采用雙頻射頻發生器，又稱感應射頻。這使得腔室在不影響蝕刻速率或均勻性的情況下實現高等離子體密度。此外，腔室采用智能校準系統，自動優化每個基板的晶圓尺寸參數。控制器支持廣泛的過程監視和控制,並為創建和調整特定於應用程序的配方提供了一個用戶友好的界面。此外，該室還設有安全系統，以確保其操作安全。該系統由監測物理和化學參數（如壓力和溫度）的傳感器監控。該室還設有故障安全機制，以防止氣體泄漏和潛在爆炸等任何異常情況。NOVELLUS Altus Chamber是一款適用於現代芯片生產線的強大蝕刻室。高蝕刻率和低擁有成本使其成為許多芯片鑄造廠的理想選擇，其完全對稱的設計確保了工藝的均勻性，同時能夠同時處理多種類型的晶圓。此室具有出色的用戶界面,使工程師能夠輕松有效地配置和調整配方。安全傳感器和協議確保以安全的方式完成所有操作,從而使Altus Chamber成為滿足任何半導體制造需求的可靠且最佳的解決方案。