二手 NOVELLUS C2-DLCM-S #293806498 待售

製造商
NOVELLUS
模型
C2-DLCM-S
ID: 293806498
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
System, 8" (2) PDX1400 Loadlock interface board 2000 vintage.
NOVELLUS C2-DLCM-S是一種最先進的化學氣相沈積(CVD)反應器,專門設計用於將金剛石狀碳(DLC)材料薄膜沈積到各種基板上。這座先進的反應堆將尖端技術與精密控制系統相結合,使高質量的DLC薄膜能夠沈積,具有出色的均勻性、附著力和廣泛工業應用所需的性能。C2-DLCM-S反應堆設有多個處理室,每個室能夠容納不同的底物尺寸和形狀。這種多功能性允許在加工各種基材材料,包括矽片、玻璃、金屬和聚合物時具有高通量和靈活性。反應堆具有堅固的氣體輸送系統,確保精確控制沈積過程參數,如氣體流速、壓力和溫度剖面,以在整個基板表面實現一致的薄膜質量和厚度。NOVELLUS C2-DLCM-S反應堆的核心是它的等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)技術,利用等離子體和前體氣體的結合,為DLC膜的沈積產生高反應性環境。反應堆裝有先進的等離子體源,如感應耦合等離子體(ICP)或微波等離子體,有效地將前體氣體解離,產生反應物質,可以在底物表面成核和生長DLC膜層。C2-DLCM-S反應堆的一個關鍵特征是其專有的工藝配方控制軟件,它允許用戶針對特定的薄膜特性,如硬度、附著力和光學透明度,定制和優化沈積工藝參數。軟件界面提供關鍵工藝變量的實時監控,如氣體成分、等離子體功率、底物溫度等,使用戶能夠微調工藝條件,實現所需的膜特性。NOVELLUS C2-DLCM-S反應堆專為大批量生產環境而設計,註重可擴展性、可靠性和易維護性。反應堆腔室設有先進的加熱和冷卻系統,以確保沈積過程中的精確溫度控制,而真空系統則保持最佳膜生長所需的壓力條件。反應堆還具有自動化的裝載和卸載機制,可有效地處理基板,並減少加工運行之間的停機時間。除了先進的沈積能力外,C2-DLCM-S反應堆還配備了用於監測沈積過程中薄膜性能的原位診斷工具,如光譜橢圓偏振法、石英晶體微平衡法、激光反射法等。這些工具提供了薄膜厚度、折射率和機械性能的實時反饋,允許操作員調整工藝參數以達到一致的薄膜質量和性能。總體而言,NOVELLUS C2-DLCM-S反應器是沈積高質量DLC薄膜的尖端解決方案,對薄膜性能和工藝參數進行精確控制。其先進的技術、通用的設計和用戶友好的界面使其成為研發的寶貴工具,以及在半導體、光學塗層、汽車等行業的大批量制造應用。
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