二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9159135 待售

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NOVELLUS CONCEPT 2 Altus
已售出
ID: 9159135
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
WCVD Systems, 8" (2) Chambers Transport module Verity end point detectors RF Match type: Trazar AMU2-1 DCLM Gate valve type: VAT RF Genertor type: ENI Brooks robot teach pad DCLM Robot type: Brooks Mag 5 Transport module Power box Cables Process Kit C2 PDRS unit Power requirements: 208V 3 Phase 50/60 Hz CE Marked Currently warehoused 1999 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一種單晶片化學氣相沈積(CVD)反應器,專門設計用於在半導體基板上沈積先進薄膜。用於高端集成芯片等電子設備的制造。反應堆使用等離子體增強型CVD(PECVD),這一過程在晶圓上形成高度受控且均勻的薄膜。這個過程從一個加熱氣體進入充滿高密度離子場的反應室開始。反應物氣體隨後被離子註入並減少,在底物表面形成薄膜。該反應堆設計為交鑰匙系統,安裝方便,過程控制嚴密。可以快速、精確地調整工藝參數,以確保沈積周期以最佳速度運行,並將生產成本降至最低。CONCEPT 2 Altus能夠運行多個進程室,最高溫度為800 °C。具有高效、化學均勻性,靶向覆蓋面積大,是先進薄膜沈積的理想選擇。可以在反應器上進行的過程包括蝕刻、薄膜沈積和半導體底物的氧化。另外,通過使用多個工藝室,反應器能夠同時執行各種薄膜沈積作業。反應堆還配備了遠程診斷接口,使操作員能夠遠程、快速地監控和故障排除系統。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一種高效先進的反應器,非常適合薄膜沈積在SMC和其他半導體基板上。它具有先進的溫度和過程控制系統,能夠在整個工作表面提供緊密而均勻的薄膜沈積。此外,它的多室設計允許同時薄膜沈積,為薄膜制造提供最大的生產力。利用遠程診斷接口和800°C的最高溫度,CONCEPT 2 Altus是高級薄膜沈積作業的理想工具。
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