二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9202875 待售

ID: 9202875
晶圓大小: 8"
CVD System, 8" (2) Chambers.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是下一代等離子體反應器,用於半導體制造的高精度蝕刻沈積薄膜。開發該反應堆的目的是優化20海裏及以下節點的先進裝置,如FinFET的生產。它具有高縱橫比腔室的特點,利用電感耦合等離子體(ICP)產生等離子體放電。CONCEPT 2 Altus的高縱橫比腔室旨在提高不同材料的精密沈積和蝕刻。有了10:1的長寬比,腔室允許電極之間有更大的分離,這增加了用於產生等離子體放電的電場的穩定性。它還在其整個晶片表面提供均勻的離子轟擊。此外,腔室還具有更細的垂直輪廓,允許在不同的過程之間更快地過渡。此外,NOVELLUS CONCEPT 2 Altus由ICP源提供支持,該源針對低接近護套控制進行了優化,以實現更好的蝕刻均勻性。通過控制ICP源,可以產生功率範圍從超低到高功率的等離子體,從而可以精確控制不同材料的蝕刻和沈積。CONCEPT 2 Altus還利用了高效的技術,例如周期時間比以前的系統快30%,以及其晶圓交接系統,提高了晶圓加載的效率。它還采用了鎖載技術,能夠快速補充工藝氣體和清潔幹燥空氣,從而進一步縮短加工時間。此外,該系統還集成了先進的智能診斷和警報,可用於預測性維護。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一個全面、下一代的等離子體反應堆系統,旨在為制造先進半導體器件提供高效、高精度的蝕刻沈積能力。它利用ICP技術產生具有精確控制的等離子體、用於均勻離子轟擊的高長寬比腔室、用於更快循環時間的高效技術以及先進的智能診斷以確保最佳性能。
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