二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093690 待售
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ID: 9093690
Chamber
Includes:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: ih1000
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: i80
(1) TM Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
(1) LL Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual, Port 2 and 3
Remote interconnect cables; 75 ft
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
DLCM-S:
Robot assy, Mag7, Bisymmetrik Arm, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual Altus ready
Software/Controls:
Modular controller type: 02-272554-00, MC3
System controller type: 02-267883-00, MC3
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0, IOC, 4.1
2, IOC, 4.1
3, IOC, 4.1
Altus IOC:
0, SIOC, 4.30
1, SIOC, 4.30
2, SIOC, 4.30
3 (MPD), IOC, 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber Configuration:
SHWRHD, 8", Style B: 03-00258-00
Assy, Ped, 8" Moer, D.3, Semi: 02-033134-01
Excl ring, 8", 2.0 mm Oh, Semi: 15-032777-00
Indexer plate, Hub: 15-034848-00
Indexer, WF, Excl, Option, 8": 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
Opt endpt det'r, Mstr, Alt-s: 04-120458-00
Throttle valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas Box Configuration:
A Manifold:
1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
3: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
B Manifold:
6: Aera FC-7810CD, C2F6/2 SLM
7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
D Manifold:
2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
H Manifold:
D: Aera FC-7810CD, AR/20 SLM
W Manifold:
4: Aera FC-7810CD, Ar/20 SLM
5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
C Manifold:
8: Aera FC-7810CD, AR/10 SLM
9: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 10 TOR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2反應堆是一種化學增強的物理氣相沈積（CEPVD）反應堆，用於生產大容量半導體器件產品。它基於支持各種動態配置中的不同應用程序的模塊化體系結構。反應堆設計有雙室，允許在一個室中進行高速率沈積，在另一個室中進行低速率沈積。這使得反應堆能夠保持高吞吐量，同時降低消耗性成本。反應堆具有獨特的熱無與倫比的設計，將晶圓加工室與源腔分離，從而使高速率沈積不受源腔熱變化的影響。這種熱隔離能夠有效的熱管理和一致的沈積速率。另外，CONCEPT 2 Dual Altus 2使用了一個分裂沈積室，使得同一室內的不同層能夠沈積。這種分室設計使反應堆更容易融入半導體生產線。NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2反應堆采用定制石英管，提供卓越的負載處理、溫度均勻性和均勻的沈積速率。它具有先進的晶片溫度監測系統（OWTM），以確保可靠的均勻性和計時性能。先進的OWTM能夠在納秒內檢測到溫度的快速峰值,從而可以控制單個晶片上的熱梯度。這有助於通過監視和顯示每個晶片的實時溫度數據來確保進程始終可靠地運行。CONCEPT 2雙Altus 2反應堆的一個主要優點是能夠處理多個前體批次。這使得反應堆可以在一個批次中處理具有不同平臺進步的晶片。上遊氣體混合系統的引入也使得NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2能夠實時調整各種工藝參數，如壓力、溫度和氣流，從而使復雜沈積過程得到更精確的控制。總體而言，CONCEPT 2 Dual Altus 2是一種經過驗證和可靠的CVD反應堆，具有極好的均勻性和生產率。它具有處理多個前體批次的能力，加上先進的晶圓溫度監測系統，使其成為生產大容量半導體器件產品的理想選擇。
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