二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus #9093684 待售

ID: 9093684
CVD System Standard and PNL chamber Shrink chambers Frame has PNL option Module controller: MC1 P166 QNX4 IOC Version: 4.1 Shuttle type SMC L-motion slit valve Verify end point detector RFG 3000 Generator Power rack: MSSD.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus Reactor是一種雙濺射裝置,具有獨特的功能,專為最苛刻的蝕刻和沈積應用而設計。它結合了反應能力和卓越的過程控制,以確保一致的高質量的結果。NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS獨特的AC/DC/O2控制,結合現場排放源(FES)技術緩沖沈積,提高了大面積塗層的質量和均勻性。CONCEPT 2 Dual Altus與它的前身Concept 1構建在同一框架上,但具有幾個增強的功能:雙籠可處理兩倍的表面積,提高濺射精度,改進多個等離子體源,以及增加一個O2源。雙籠濺射設計減少了可能的電場,導致了難以置信的均勻沈積和增加了膜的均勻性。通過在等離子體源和晶圓之間插入法拉第籠,CONCEPT-2 DUAL ALTUS能夠嚴密控制工作區的等離子體環境,防止電弧和汙染。此外,NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus還提供了一套高級工藝控制選項,可準確控制沈積速率、均勻性和厚度。通過使用實時反饋和先進的工藝算法,NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS能夠始終如一地生產出質量更高的產品。此外,CONCEPT 2 Dual Altus還提供了更高效的設計,可提高流程可重復性,並顯著降低了O2的消耗,從而實現了更環保的流程。最後,CONCEPT-2 DUAL ALTUS在廣泛的流程環境中靈活靈活且用途廣泛,其模塊化設計可方便地針對不同的應用進行修改。這種多功能性和可擴展性使客戶能夠升級和/或擴展其現有的Fact10環境,以包括NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus及其高級功能。NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS無論是用於增強沈積和蝕刻工藝,還是專用於專業應用,都是一種卓越的工具,能夠產生始終如一的高質量結果。
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