二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9299473 待售
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ID: 9299473
System
Dual EPD
MC3 Module controller
Heater: 19-00154-01
Clean method: Insitu clean (C2F6)
ADVANCED ENERGY RFG 5500 HF Generator (Model no: 315051-115)
ADVANCED ENERGY PDX 1400 LF Generator (Model no: 3156024-141B/C)
Al 3003 Showerhead (Model no: 16-033931-00)
RF Match: Mercury 3013NV (Model no: 3150274-003/008)
Throttle valve type: MKS (60-126668-00)
Gate valve type: HVA (34-260166-00)
Process gauge: MKS (627A11TBC)
ATM Gauge: MKS (627A13TBC)
ISO Box: HIB Board (04-355636-00)
High reliability ferrofluidic spindle (02-106507-00)
ADM RF Switch kit
Clean method
Insitu clean (C2F6)
ILDS for Chemical-TEOS supply system
Gas box:
MFC Model: Aera FC-7800CD
O2 20 SLM
C2F6 2 SLM
SiH4 1 SLM
N2A 5000 SCCM
N2B 10 SLM
N2O 20 SLM
N2O_AUX 1 SLM
PH3 2 SLM
NH3 10 SLM.
NOVELLUS CONCEPT 2雙續快堆（Dual Sequel Express Reactor）是一種化學氣相沈積（CVD）設備，用於將氧化物和氮化物等纖細層材料沈積到一系列基材上。該設備設有兩個獨立的Sequel處理室，每個處理室包括四個Dual EndurTM處理模塊。Sequel腔室設計用於高通量處理，與替代化學氣相沈積系統相比，使用戶能夠以非常快的速度沈積薄膜。概念2具有高度的多功能性,允許用戶在一個批次中使用多個前體處理200 × 200毫米大小的基板。DualEndur工藝模塊提供均勻的沈積和流量控制,並采用了一種創新的類似金剛石的塗層,可確保較長的使用壽命和多年的可靠運行。精密沈積過程是高度可重復的，確保整個基板表面的層厚度一致。Concept 2還配備了模塊化的負載鎖定系統，允許快速方便的物料裝卸。該裝置具有低壓負載鎖，使材料能夠在真空和環境壓力之間過渡，而無需額外的氮源。負載鎖設計用於容納各種基板支架，範圍從普通晶片到全畫幅盒式磁帶。在過程控制方面，Concept 2采用了多項先進技術，如液晶觸摸屏用戶界面、自動配方編輯器以及實時溫度和壓力監控。該設備還提供以太網連接,允許用戶通過計算機網絡遠程訪問和控制計算機。總體而言，CONCEPT 2雙續集快速反應器是將薄膜高效、精確地沈積到各種基板上的理想選擇。該設備的高吞吐量和卓越的過程控制使其非常適合研究和生產環境,在降低成本和節約能源的同時提供可靠的結果。
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