二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S #9097741 待售
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ID: 9097741
晶圓大小: 6"
優質的: 1996
CVD System, 6"
Loadlock baratron: Tyran general
Loadlock dry pump: EDWARDS QDP40
Slit valve: SMC L-motion
TM Dry pump: EDWARDS QDP40
TM Throttle valve: Tyran general
TM Baratron model: Tyran general
TM Robot: MTR 5
TM Robot blade: Metal
Wafer sensor: Existence
Host interface: SECS
Module controller: MC1
12" LCD Front monitor
Module A: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
Module B: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
DLCM Gas MFC
MFC1: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC2: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC3: Ar/He, 500 SLM, BROOKS 5964
SMIF Interface: No
PET Module: No
UPS Power: 120 V, 3 Ph, 3 wires
Main system: 208 V, 3 Ph, 5 wires
Currently de-installed
1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2雙速-S反應堆是一種用於半導體制造的化學沈積室。它能夠提供低溫和高溫化學氣相沈積（CVD）工藝，從而能夠處理各種介電、氧硝化物和金屬薄膜。雙腔室設計允許用戶同時或獨立運行兩個應用程序（高溫和低溫），從而實現批量前體的輸送和沈積，同時最大限度地提高工藝吞吐量。CONCEPT 2雙速S反應堆具有多功能高溫CVD室，可在高達1000 °C的溫度下處理介電和金屬膜。它還具有一個低溫CVD腔室，可以在高達450 ˚C的溫度下處理氧硝化物和介電膜。這兩個室都設計用於各種起始前體，並具有多種配方後處理選項。NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S Reactor由先進、堅固的技術元件打造而成，提供精確度、取樣和控制。低溫CVD腔室采用專利forwardDirect™註入技術，能夠更快、更高效的沈積，以及均勻的膜沈積和高產率。高溫CVD腔室采用獨特設計的氣體歧管設計，用於嚴密的溫度控制和廣泛區域的均勻沈積。CONCEPT 2 Dual speed-S Reactor的另一個特點是它的自動化過程。獲得專利的機器人輸送機系統允許反應堆通過該系統自動移動晶片、基材、材料和組件，而機械輔助臂則確保預處理室和加工容器的準確和均勻裝載。預處理室還允許在將基材裝入加工容器之前進行毯子處理，以確保膜沈積均勻。總體而言，NOVELLUS CONCEPT 2雙速S反應器是一種可靠、高效、用途廣泛的化學沈積室。同時執行低溫和高溫CVD工藝的能力使其成為各種半導體制造工藝的理想選擇。其先進的技術部件、自動化工藝和forwardDirect™註入技術提供了準確、統一和高產的操作。
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