二手 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9237572 待售

ID: 9237572
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
CVD Systems, 8" Mainframe Gas box: Standard with dual divert Robot: Express dual blade Cool down: 3 Slots Endpoint: Dual wavelength endpoint Sequel chamber: Sequel express TEOS Sigma 6 TEOS Cabinet (2) PFEIFFER 1600L Turbo Speed chambers 2001 vintage.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel是一種先進的物理氣相沈積(PVD)反應器,設計用於在各種產品上生產高質量的塗層。這座反應堆裝有產生高能離子的雙磁限制弧,允許沈積層快速傾斜。它還具有兩速沈積,這意味著它可以快速地在高沈積率和低沈積率之間切換。這種靈活節能的反應堆可用於各種行業,覆蓋從醫用和光學零件到汽車零件和半導體的產品。Concept 2 Dual Speed Sequel PVD反應堆由一個能容納廣泛底物的腔室和一個控制器組成,其中包括電源。腔室內部襯有氣體端口,以便對等離子體進行適當的限制。它可以一次容納多種基板,因此生產率很高。真空操作是可能的,因為使用了兩級可充電冷凍泵。如果需要,集成電阻加熱器可以進一步提高基板溫度。NOVELLUS Concept 2雙速續集PVD反應堆的核心是弧室。它由雙壁不銹鋼結構組成,電弧室裝有兩個電弧電極,每個電弧電極都有多個陽極。它還配備了離子源。弧室後部充滿惰性氣體,允許快速傾斜和精確控制沈積。Concept 2雙速續集PVD反應堆的控制器連接到電弧室,並為兩個電弧電極中的每一個分別提供電源。也可以手動或通過計算機進行控制。它包括允許對沈積過程進行最佳控制的軟件,例如根據基板的類型和所需的塗層特性準備參數。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel PVD反應堆是一種高度先進的PVD系統,產生極耐用、符合各種標準的高品質塗層。由於其用戶友好的界面和靈活的沈積能力,這種反應堆非常適合各種需要精確塗層和精確控制的工業應用。
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