二手 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9281515 待售

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel
ID: 9281515
CVD System.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於沈積半導體器件制造中使用的薄膜。這座雙壓雙溫反應堆使用兩個泵來控制反應物濃度,並控制室內溫度。雙壓力泵提供更大的氣流控制,是優化CVD應用的理想選擇。概念2雙速續集是多晶矽沈積反應堆;它具有高壓高速反應區,在加工室和氣體輸送氣室之間有兩個泵。第一個泵是前體氣泵,它輸送過程中使用的前體。第二個泵是反應壓力泵,在反應區內保持恒定壓力,從而允許精確控制反應物濃度。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel還設有一個高速、低壓反應區,配有兩個尺寸適當的流閥。第一個閥門是低壓閥,調節過程氣體引入反應腔,第二個閥門是高壓閥,調節過程氣體的停留時間和濃度。這兩個閥門可以對薄膜沈積速率和薄膜質量進行精確的操縱和控制。Concept 2 Dual Speed Sequel具有雙溫度插件,以實現高效加熱和冷卻。雙溫度插件有助於優化反應堆內的溫度曲線,從而允許更高的產量。插件配有緊密間隔的加熱器元件,可實現均勻的溫度控制和快速的時間響應。這些元素還通過整個反應帶提供均勻的溫度。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel擁有先進的控制器單元,具有直觀易用的用戶界面。此控制器具有圖形用戶界面(GUI),允許進行詳細的進程參數處理。此GUI還提供實時監視功能,並允許用戶即時調整流程參數。Concept 2 Dual Speed Sequel是一種先進的CVD反應器系統,便於薄膜的高效精確沈積。其雙壓雙溫系統提供了對工藝參數的精確控制,而嚴密的溫度控制則使產量更高。高級控制器系統也是一個值得歡迎的補充,因為它允許實時處理過程。所有這些特性使NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel成為薄膜沈積的理想工具。
還沒有評論