二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #293798174 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293798174
優質的: 2002
CVD System, 8"
Wafer type: Notch / flat
Process: SION
Mag7 Robot vacuum
Single chamber
Light towers: RYG, 3-Color
Main frame: DLCM Express, 8"
Signal tower: Cool station
Dual load lock cassette module
No integrated SMIF ASYST LPI2200
No front-end option
Process chamber A:
Process type: SION
High frequency RF Generator: RFG5500
Low frequency RF Generator: PDX1400
Gate and throttle valve
End point detector
Manometers: 10 / 1000 TORR MKS
Ferrofluidic spindle
Clean process: IN-SITU
Gas box:
Gas / MFC Size (SCCM)
C2F6 / 5000
PH3 / 1000
O2 / 5000
SIH4 / 1000
NH3 / 3000
N2O / 10000
N2 / 10000
N2 / 5000
Heater
Shower head
Gas box exhaust
2002 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express是為處理先進半導體器件而建造的最先進的多功能蝕刻沈積反應器。這種基於批量的支持PECVD的工具為晶圓處理提供了一個通用且經濟高效的平臺。CONCEPT 2 Sequel Express基於革命性的「熱墻」概念，使得在單個反應堆中進行集成腔室清潔、石英壁活化和沈積步驟成為可能。Hot Wall設計提供了一種高吞吐量、低成本的每晶片工藝優化方法。熱墻熱效率高，保證了溫度分布均勻，循環時間快。Sequal Express具有多種特性，使其具有高度的通用性，包括雙氣體噴射器、高線性加熱器、特定於溫度的可編程偏置和通用源模塊。雙氣體噴射器設計用於精確控制沈積氣體的流動並提供快速循環時間。高線性加熱器提供了更好的溫度控制，提供卓越的蝕刻和沈積性能。特定於溫度的可編程偏差可增強晶片上的性能,並在整個晶片上保持均勻性。通用源模塊能夠與各種氣體和材料兼容,從而能夠在單極和雙極基板上制造高性能設備。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express還有一個集成的、先進的通風室，其設計目的是在室內保持最佳環境，同時最大限度地減少任何揮發性有機化合物（VOC）從加工室排放。通風室還可以快速、安全地從室內清除水和其他材料，確保最大限度地減少汙染，保持高通量率。總體而言，CONCEPT 2 Sequel Express是先進半導體器件高效處理的突破性工具。Hot Wall設計可確保快速的熱均勻性和循環時間,而雙氣體噴射器和其他高級功能可與各種材料和氣體兼容。最後，通風室確保最大限度地減少VOC排放，同時保持最佳操作條件。
還沒有評論