二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #9243045 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express是一種化學氣相沈積(CVD)反應堆技術的工具。它是一種單晶片、小占地面積的設備,用於將薄膜層沈積在矽晶片和其他基板上。該系統采用先進的工藝控制算法和精密沈積頭基板運動系統,實現了更高的精度、更快的循環時間和更高的吞吐量性能。CONCEPT 2 Sequel Express工藝允許多種薄膜材料沈積。它配備了種類繁多的工藝氣體,使沈積層的均勻性和最小化。該單元利用單晶片、多區高密度等離子體(HDP)源沈積介電膜、金屬化層、鈍化層、屏障層。HDP工藝通過加入反應物流動聚焦(RFF)模塊得到加強,該模塊允許對抗氧化氣體流動進行獨立控制。此外,RFF模塊允許生成定制和預定義的等離子體輪廓,增強沈積質量和控制膜厚度。該機還配備了專利基板級運動控制功能,旨在減少晶片上的不均勻性。此功能可精確控制底物運動和相鄰薄膜的定位。低能偏壓也可以引入基板,促進膜的均勻生長。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express還采用了多種先進的過程控制,以提高過程的均勻性和可重復性。它包括基板傾斜控制和可變基板偏置控制等技術,旨在確保晶圓內部和整個晶圓的均勻性。此外,該工具還具有多種原位反射儀監測資產,用戶可以測量線寬、總厚度、蝕刻和沈積速率等各種質量。CONCEPT 2 Sequel Express模型是一種功能強大的CVD生產工具,用於半導體器件制造。它擁有先進的過程控制算法和精確的沈積頭和基板運動系統.它能夠沈積多種薄膜材料,具有獨立控制抗氧化氣流和可調底物偏差的功能。此外,其先進的工藝控制和現場監測設備提高了工藝的統一性和可重復性。
還沒有評論