二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9382778 待售
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ID: 9382778
優質的: 2005
CVD System
DLCM
VAT Type: SLIT
Left and right indexer missing
Controller missing
(3) IOC Version 4.0
TM interface PCB missing
MC1 system and DLCM controller
Chamber:
ADVANCED ENERGY 3013 RF match
MC3 controller
Interlock board
(2) IOC Version 4.1
EPD detector and controller
Gas box with 9 panel gas
(2) MC3 Module controllers
TM robot (MTR-5/Mag-7)
Process chambers
DLCM indexer Missing
No RF generator
2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是第三代沈積設備,旨在提高半導體器件制造的精度、生產率和性能。它是一個高度先進的物理氣相沈積(PVD)反應堆,旨在跟上半導體工業不斷改進的不懈步伐。CONCEPT 2 Sequel的兩室設計由上PVD室和下氣體輸送室組成。封閉式PVD腔室是針對性能進行優化的定制、等離子體腔室,而下腔室則配有氣體輸送系統,可產生氣體動態流向塗層材料。為了最大限度地提高精度和準確性,NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel的專有冷卻技術利用高壓、無湍流的再循環單元來保持恒定的溫度和最小化氣體對流,同時提供高度可重復的沈積條件。CONCEPT 2 Sequel加載了精密的功能,以確保一致和高質量的薄膜沈積。其先進的燒蝕工藝采用校準可控的斑點尺寸燒蝕,以達到模式跟蹤精度。它靈活的體系結構和先進的計量技術使處理器能夠量身定制配方,以提高膠片應力和步長覆蓋率,其編程的阻抗調整確保了一致和可重復的結果。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel集成了許多高級過程控制功能,旨在最大程度地提高過程穩定性和可擴展性。其多面晶圓處理機為晶圓的精確對準和定向提供精確的旋轉和加速度控制。它還具有高度自動化的基板處理工具、精確的階段映射資產、用於基板識別的機械臂以及用於快速準確診斷的智能現場模型。集成到設備中的是實時、即時操作的過程控制功能,包括獨特的端點檢測功能。這些功能使操作員能夠快速響應流程變更,從而提高吞吐量和產量,以最大限度地提高經濟效益。CONCEPT 2 Sequel是一種有效可靠的沈積系統,旨在滿足21世紀半導體器件制造行業的苛刻要求。它旨在最大限度地提高精度、生產率和性能,並通過優化過程穩定性和可擴展性來提高成本、吞吐量和產量。
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