二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9402240 待售
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ID: 9402240
System
DLCM-S
BROOKS AUTOMATION Magnatran 7
BROOKS Robot teach pendant
Indexer robot teach pendant
MC3 Module controller
Loadlock Indexer:
Indexer II
Type B Controller
Type 2 Robot
Process module A and B:
ADVANCED ENERGY RFG 5513 HF Generator
ADVANCED ENERGY PDX 1400 LF Generator
Frame assy: Sequel-X
Spindle assy type: Ferrofluidics
RF Match type: ADVANCED ENERGY Mercury 3013
MFC AERA FC-7800CD
Gas Boxes:
MFC Number / Gas / Size
MFC 1 / SiH4 / 1 SLM
MFC 5 / He / 10 SLM
MFC A / N2O / 20 SLM
MFC 2 / N2 / 5 SLM
MFC 6 / NH3 / 10 SLM
MFC 9 / NF3 / 5 SLM
MFC B / N2 / 10 SLM
MFC 7 / N2O / 1 SLM
MFC 4 / PH3 / 2 SLM
MFC 8 / O2 / 20 SLM.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一種專為先進薄膜沈積工藝而設計的高溫化學氣相沈積（CVD）反應器。它是一個雙室系統，上腔具有用於氣體輸送的質量流控制器（MFC）、用於均勻通量輸送的加熱淋浴頭以及用於電離和射頻激發的等離子體發生器。反應堆的下腔包含加熱到基板沈積溫度的敏感器，以及一個電子壓力控制器（EPC）以保持反應堆內部穩定的真空水平。該系統設計有一系列的工藝流程和溫度控制機制，以保證溫度的穩定和控制，以及薄膜沈積的均勻性。CONCEPT 2 Sequel使用氣流和等離子體激發的組合來沈積各種材料的薄膜。它具有沈積多種不同材料的薄膜的能力，如多晶矽、鋁和銅，純度和分辨率都很高。反應堆的上腔是氣體流動的地方，下腔是發生基質沈積的地方。加熱的淋浴頭用來將加熱的反應物氣體均勻地散布在基板上。反應物氣體的射頻激發產生等離子體，增加反應性，增加沈積速率和均勻性。電子壓力控制器（EPC）在下室運行，使反應堆中的恒定壓力保持在所需的水平。溫度控制也是NOVELLUS CONCEPT 2續集的一個關鍵特性。敏感器在下腔加熱，溫度通過控制棒均勻分布。溫度監測系統允許用戶調節溫度水平，以及反應速率，以保證薄膜的高質量沈積。CONCEPT 2 Sequel設計易於使用，具有直觀的用戶界面和自動化的監控。它是一種通用的薄膜沈積工具，具有高速度、均勻性和可靠性，適用於先進的應用。
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