二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9075495 待售
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單擊可縮放
ID: 9075495
晶圓大小: 8"
優質的: 2004
HDP CVD System, 8"
Type: Shrink
Process: STI / IMD
Wafer shape: Notch
Module A: shrink
Module B: shrink
Module B: shrink
MKS Load lock baratron
TM Robot: Mag 7
Ceramic TM Robot blade
MC1 Module controller
Existence wafer sensor
EMO: Turn to release
SECS
IOC Version: 4.1
LCD Front monitor, 12"
DLCM Gas MFC:
UPC1(L L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
UPC2(R L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
MFC3 Ar/He 500 Sccm Brooks 5964
Chamber (A, B, C):
Chamber Type: Shrink
Chamber Process: STI / IMD
MC1 Module controller
Throttle valve: MKS 651D
HF Generator: AE RFG5500
IOC Version: 4.1
Pedestal lift type: Dual position
Module turbo pump: Pfeiffer TMH 2101 PCX
ESC / Dome cooling: PCW
LF Generator: AE PDX 8000
Dual clean injector kit
Fore line type: Universal
ESC Type: DS1
Manometer 1(10T): MKS629B
Manometer 2(10T): MKS629B
Manometer 3(100 m): MKS750B
Process clean type: In situ
RF Match: MECURY 3013
Injector type: Single
Injector Size,1"
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 STEC
MFC 2 O2 500 STEC
MFC 3 NF3 1000 STEC
MFC 4 SiH4 200 STEC
MFC 5 HE 1000 STEC
MFC 8 H2 2000 STEC
System main power: 3-208 V
System UPS Power: 3-120 V
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump model: Pfeiffer TMH 260
TM Throttle valve model: Tylan
MKS TM Baratron model
2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed是一種化學機械拋光(CMP)反應器,用於使半導體晶片表面變平。它用於清除對峙、劃痕和其他汙染物等各種任務,創造出極為均勻光滑的表面。CONCEPT 2 Speed的設計具有非常緊湊和高效的占用空間,可輕松安裝在任何類型的工作區中。這座反應堆具有兩個高精度、高速的晶圓載流子,一個循環最多可處理兩個300 mm晶圓。它還有一個先進的機械臂,用於晶片裝卸,確保一致和高效的處理。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed可以處理大部分拋光序列,包括磁帶去除器、稀釋器、墊式冷凝器和潤滑器。該反應堆采用柔性雙磁性前後軸配置,允許對兩個軸進行獨立調整。這種靈活性提供了最佳的墊接觸和過程控制。它還包括眾多可以檢測汙染程度、工藝條件和墊溫度的傳感器。CONCEPT 2 Speed還具有強大的漿液擴散系統,在加工過程中快速均勻地分配液漿。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed配備了幾種旨在提升性能的創新技術。這個反應器包括一個晶圓映射模塊,可以創建精確的圖樣--它的種類映射,詳細描述晶圓的表面層。它還有一個泥漿耗盡監測系統,監測剩余的泥漿量,防止過度拋光,並監測系統性能。總體而言,CONCEPT 2 Speed是一種先進的CMP反應堆,為大容量拋光應用提供了更好的性能和可靠性。它被設計為高效,需要最少的操作員交互,使其成為精密CMP應用的完美選擇。
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