二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9093692 待售

ID: 9093692
晶圓大小: 8"
優質的: 2005
CVD, HDP System, 8". Wafer shape: Flat SMIF Interface: No PET Module: Yes Aligner option: No System main power: 208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 5 wires 3-Phase full load current: 10 amps Max component current: 5 amps System UPS Power: Yes Silt valve insert: No Silt valve type: SMC L-Motion TM Turbo pump bodel: Pfeiffer TMH260 TM Throttle valve model: MKS TM Baratron model: MKS Loadlock baratron model: MKS IOC Version: V 4.1 TM Robot type: Mag 7 TM Robot blade: Ceramic Wafer sensor: Existence Signal tower: Yes EMO's: Push button Module controller: MC1 Host interface: SECS Front monitor: LCD Monitor MFC1, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964 MFC2, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964 MFC3, Ar/H2, 500 Sccm, Brooks 5964 Sys con: C2-SCON-6582 Signal cable Chase computer Module A, B, and C: Chamber type: Shrink Chamber process: ILD Process clean type: In situ Module controller: MC1 Module turbo pump: Pfeiffer TPH2101 PCX Manometer 1 (10 T): MKS Throttle valve: MKS ESC / Dome cooling: PCW Temp monitoring: NTM500C Manometer 2 (10 T): MKS HF Generator: AE RFG5500 LF Generator: AE PDX 5000 RF Match: Trazar AMU10E-2 Manometer 3 (100 m): MKS IOC Version: 4.2 Dual clean injector kit: Yes Injector type: Single Louvered screen: No Pedestal lift type: Dual position Foreline type: Standard NF3, 1 slm, Aera FC-D980C Ar, 500 sccm, Aera FC-D980C O2, 500 sccm, Aera FC-D980C H2, 2 slm, Aera FC-D980C HE, 500 sccm, Aera FC-D980C SiH4, 200 sccm, Aera FC-D980C Deinstalled 2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed(C2S)是專為半導體工業薄膜沈積而設計的兩室化學氣相沈積(CVD)反應器。用於將金屬和化合物如矽、鎢和氮化物沈積到集成電路或IC上。該C2S旨在為用戶提供一個專門為高級流程優化量身定制的可靠、高速率的工具。C2S反應堆有兩個腔室,由隔壁隔開,使用化學蒸汽註入設備將反應物引入加工腔室。這兩個腔室設計成同時在不同的壓力、溫度和流量下運行。這樣就可以優化所有必要的參數,以獲得所需的薄膜沈積速率和覆蓋範圍的均勻性。該C2S利用超高純度的氙氣對腔室加壓,促進氣流平滑,以及加熱(2200 °C)的基板和敏感器系統,以達到最高的沈積速率。該裝置設計得極為精確,在多個點提供過程控制,以確保基板表面的最高均勻度。還提供了一個計算機化控制器,允許用戶根據需要方便地監測和調整壓力、溫度和流量參數。該C2S配備了幾種先進的技術來增強這一過程,包括NOVELLUS Close Space Sublimation (CSS)技術。這項技術允許用戶以比傳統CVD工藝更高的沈積速率直接沈積多層鎢和其他耐火金屬薄膜。它還消除了對蝕刻步驟的需求,從而降低了成本,縮短了周期時間。此外,該C2S還可與NOVELLUS Endura CVD機集成,該機旨在以更高的沈積速率提供均勻的覆蓋,提高工藝控制精度。該工具還允許用戶實時監控、控制和優化沈積參數和過程,從而產生更好的缺陷控制和產量增加。C2S提供的高性價比和可定制功能使其成為各種先進制造應用程序的理想選擇。添加的過程控制允許用戶以更高的速度運行資產,同時仍在基板表面上保持所需的均勻性。憑借其可靠的性能和定制功能,CONCEPT 2 Speed Reactor為用戶提供了生產先進薄膜設備的高效、經濟高效的解決方案。
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