二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #293616585 待售

NOVELLUS CONCEPT 2
製造商
NOVELLUS
模型
CONCEPT 2
ID: 293616585
晶圓大小: 8"
Metal sputter, 8" Comes with 2PM.
NOVELLUS CONCEPT 2(NC2)是為半導體制造設計的反應堆。它由一個6英寸低溫化學氣相沈積(CVD)反應器組成,能夠進行超高通量沈積過程。其高吞吐量、低成本和靈活性使其成為生產提升和技術遷移的理想工具。該NC2具有獲得專利的脈沖/連續工藝能力,結合了兩種沈積方式的優點。通過脈沖處理,保持溫度,同時以脈沖方式施加激光,以減少氮含量。當激光脈沖以均勻方式連續發射時實現連續處理。這種技術的組合允許卓越的過程控制和優化的增長率,化學成分,和薄膜厚度。該NC2還有一個創新的分流工藝室,提高了對纖薄沈積的一致性。分流室維持兩個氣流之間的邊界,允許高度的一致性均勻性和均勻的薄膜厚度與最小的空隙。分流室是典型的350-450C沈積溫度的理想選擇,即使在困難的基板上也能生產高質量的均勻塗層。該NC2有一個零阻力的冷墻設備加上先進的膜粘附系統。這種零電阻冷壁元件可提高沈積速率,增強晶圓溫度均勻性,提高整個晶圓高度的薄膜厚度均勻性。自適應膜粘附單元有助於減少由於吸附而產生的不均勻性,確保能夠始終如一地實現最佳膜的形成。該NC2設備齊全,可以應對許多先進制造技術的挑戰。它具有預蝕刻和後蝕刻武器模塊的能力,允許沈積具有極端保形性的層。此外,還可以在NC2中添加二次輻射源,進一步擴大其能力。這使得它成為技術發展和試制非易失性內存設備、OLED顯示器、生物傳感器等的理想工具。最後,CONCEPT 2為解決半導體制造的挑戰提供了一種創新且經濟高效的解決方案。其專利脈沖/連續工藝提供了優良的工藝控制和薄膜均勻性。其裂流室增加了對超薄沈積的共形性。其零阻力冷壁和先進的薄膜粘合機在晶圓高度上提供了更大的均勻性,減少了薄膜沈積的不均勻性。最後,其次要來源為先進制造技術的武器庫增添了強大的工具。
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