二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9212169 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是一種中等規模、低壓的化學氣相沈積（CVD）設備，設計用於大批量生產薄膜集成電路。它采用單室工藝進行氧化物和氮化物的沈積，提供了低缺陷率的高通量率。CONCEPT 2具有十個沈積源的卓越性能,可在整個基板表面提供非凡的均勻性。NOVELLUS CONCEPT 2以低壓反應物流建造，具有專為氧化物和氮化物沈積而設計的控制壓力。該腔室采用封閉的圓柱形設計，采用采用多氣體系統的兩區高速熱工藝。它有兩個內部氣體歧管，允許更高的總氣流以增強均勻性，還有一個可選的內部屏障層以提高吞吐量。利用精確控制的拋物面射頻能量場使反應物氣體電離。這導致反應發生在晶片表面，最終導致薄膜層的沈積。CONCEPT 2配備了高速率、多組分氣體輸送單元。本機保持受控反應物壓力，提供極好的均勻性。NOVELLUS CONCEPT 2采用自對準橫向質量流量計，以確保穩定、可重復的壓力模式和準確的氣體流速。此外，該腔室對每種反應物氣體使用單獨的質量流控制器和歧管壓力控制器。這有助於在整個沈積過程中確保高水平的可控性和精確的氣體輸送。CONCEPT 2還提供了與領先的獨立CVD系統相同的基板加熱工具。該資產可確保各種基材的異常溫度均勻性和可重復性。加熱模式也是可調的，允許用戶根據自己的特定基板和工藝要求量身定制溫度曲線。這些高級功能的結合使過程控制得到全面改進,並提高了吞吐量和蝕刻質量。為了進一步提高工藝性能,NOVELLUS CONCEPT 2采用了先進的淋浴頭技術.這一技術通過在每個淋浴頭口使用獨立的閘閥提高了吞吐量和均勻性，從而改善了反應物氣體的分布，防止了有害副產物的積累。淋浴頭技術的加入大大改善了整個基板表面的工藝窗口和均勻性。綜上所述，CONCEPT 2是一種低壓CVD設備，設計用於高容量和優越的基板均勻性。是薄膜集成電路大規模加工的理想選擇。該系統的先進特性，如多氣體輸送、拋物面射頻能量場、淋浴頭技術，使其在經常具有挑戰性的CVD環境中成為強大可靠的工具。