二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9212229 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是半導體工業中用於蝕刻的高密度等離子體反應器。它是一個單室垂直型反應堆，模塊化設計，有詳細的工藝控制設備，允許晶圓的高精度蝕刻。該系統建有真空室、供氣單元、射頻（RF）供電系統和過程監測機。該過程發生在一個金屬室內，該金屬室被隔熱以保持內部接近真空的環境。真空是蝕刻工藝的必要條件，是蝕刻工藝成功的根本要求之一。氣體分子，特別是氧和氫，被用作蝕刻劑和還原劑，從晶圓表面蝕刻材料。對氣體流動和等離子體形成的精確控制對於該過程的成功至關重要。該反應堆利用13.56 MHz的射頻頻率和高達1500W的功率水平產生輝光放電並形成反應性物質，用於蝕刻晶圓表面所需的圖樣。工具的射頻功率、氣流、運行溫度由公司先進的控制資產精確控制。射頻電源模型負責驅動射頻發電機。它為輸入功率提供精確控制，確保電力準確供應給發電機。氣體輸送設備提供對氣體流動的精確控制，允許對系統中的蝕刻氣體進行精確的成分控制。設備的溫度分別通過熱傳感器和熱控制器進行監測和控制。過程監視機負責在蝕刻過程中監視晶片。該工具允許實時觀察蝕刻過程，使操作員能夠優化過程以獲得更高的收益率和更高的收益率。CONCEPT 2是一種用途廣泛、可靠的蝕刻資產，旨在滿足半導體行業最嚴格的需求。其模塊化和精確的工藝控制保證了整個行業的最高蝕刻質量。該公司為客戶提供完整的維護和技術支持解決方案，允許其高功率蝕刻型號的無憂安裝和操作。