二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293758414 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus
ID: 293758414
WCVD System.
NOVELLUS Concept 3 Altus(「Altus」)是由NOVELLUS Systems開發的高性能、下一代等離子體反應堆。Altus能夠加工多種材料,從熱氧化物到氮化鈦,工藝均勻性最高,吞吐量性能最高。Altus的先進設計利用新穎的技術提供了可重復、卓越的性能,能夠處理10納米及以下的特征寬度。Altus的核心是其先進的氣體輸送系統,該系統提供了獨特的雙等離子體源方法,在整個腔室寬度上提供更均勻的等離子體。兩個磁控管允許等離子體在基板上進一步延伸,形成一個強烈的磁雲,在整個基板上提供更均勻的溫度。雙等離子體源還為加工多種材料提供了增強的靈活性,包括熱氧化物、氮化鈦、碳納米管、碳化矽、氮化氙和氮化鋁。Altus反應堆利用具有先進脈沖技術的電容耦合射頻(RF)電源。該技術利用一條可切換的電源線路向等離子體源提供更穩定的電源,隨後可以更好地控制等離子體參數並最大限度地減少對基板的損壞。同時,RF功率允許過程的快速溫度斜坡上升和冷卻,以控制材料加工條件Altus反應堆還配備了先進的腔室和基板幾何形狀,從而可以實現優越的階梯覆蓋和高度均勻的工藝層。腔室幾何形狀包括一個長而寬直徑的擋板容器,其設計目的是創造一個均勻的加熱氣體分布,同時保持現代尖端應用所需的晶片到晶片均勻性。基底幾何還有助於減少基底陰影、折射和聚焦效應,從而導致非均勻性。Altus系統提供高效、節能的性能,並縮短了周期時間以實現持續的高吞吐量性能。通過利用更大範圍的參數,Altus系統提供了更高的沈積速率、更高的薄膜質量和更好的吞吐量速率-占用率(TRDC)比率。Altus還可以通過更新的技術或流程更改輕松升級。這使工程師和操作員能夠跟上最先進的技術,同時保持當前的流程。
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