二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293767145 待售
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ID: 293767145
優質的: 2007
WCVD System
Chamber position / Gases
Unit 1 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N
Unit 2 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N2
2007 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Altus是一種PECVD反應器，利用射頻等離子體沈積碳化矽、氧化鋁等保形薄膜材料。該反應器專門為要求苛刻的保形和定向高階工藝模塊如薄膜處理、拋光、氧化和布線等而設計。Concept 3 Altus采用改進的設計,增加了晶圓負載容量,提供了極好的均勻性和最小的粒子生成。該裝置建立在100毫米x 200毫米的基板上，包括一個先進的離子源，產生高沈積速率和低應力的快速移動等離子體。先進的光束技術生產出具有良好薄膜均勻性的保形塗層，確保被加工裝置均勻覆蓋。這種離子源可以在較低的溫度下操作，有助於降低能耗，提高機組的整體壽命。NOVELLUS Concept 3 Altus融合了獨特的雙排量設計，提高了性能。該設備的特點是上室和下室通過雙線束橋連接。這種設計允許更大的裝載能力和更好的覆蓋大基板，並有助於產生更高的沈積速率和沈積均勻性。反應堆還有一個精密的雙面氣體引入系統，在基板上產生均勻均勻的氣流。該裝置具有位於基板上方和下方的獨立氣體閘門，有助於產生較高的沈積速率和較低的沈積應力。Concept 3 Altus還包括改進性能的高級自動化功能。它包括一個用戶友好的監視器面板，允許用戶方便地監視機器的參數，並從監視器屏幕啟動命令。該工具還允許與其他反應堆系統輕松集成，這有助於簡化生產過程，降低運行成本。總而言之，NOVELLUS Concept 3 Altus是一個強大的PECVD反應器，能夠產生廣泛的保形薄膜和沈積。它擁有精巧的設計、出色的均勻性、改進的裝載能力和智能自動化。這些特性使概念3 Altus成為那些尋求可靠、高效和經濟高效的PECVD反應堆的人的理想選擇。
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