二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #9316137 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus
ID: 9316137
CVD System Process: Tungsten.
NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor是一種高性能、多功能的沈積設備,在多種工業應用中用於動態膜沈積。該反應堆采用先進的非現場光學系統,旨在實現過程的穩定性、可靠性和結果的可重復性。概念3阿爾特斯反應堆由一個離子源、等離子體室、預清潔室和沈積室組成,並帶有一個10級、4區加熱單元。晶圓配置經過優化,可最大化熱擴散並最小化溫度梯度,從而確保過程的一致性和準確性。離子源被設計成產生高能離子,用於蝕刻底物和/或產生等離子體密度,使等離子體室內的粒子與底物相互作用。這種相互作用通過用於塗覆材料的氣相沈積過程形成薄膜。等離子體室用於在高溫下產生和維持等離子體,使粒子在沿著圓柱形路徑到達基質時保持在氣相中。預清室用於在沈積發生前清除汙染物,10級4區加熱機設計為保證過程穩定和溫度均勻。NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor的設計旨在確保蝕刻和沈積模塊與自動控制功能之間的卓越集成。它能夠進行高分辨率蝕刻、化學氣相沈積、原子層沈積和濺射過程。其先進的運動控制系統促進了多達16個獨立晶片級的同時控制,這對於嚴格公差過程控制和產品均勻性至關重要。概念3 Altus反應堆是各種工業沈積工藝的理想選擇。它提供高性能、過程穩定性和可靠的結果以及可重復的性能。其先進的運動控制系統和精確的溫度調節使其成為任何工業薄膜沈積應用的經濟高效的解決方案。
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