二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #9375600 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus是一種中體積化學氣相沈積（CVD）反應器設備，用於半導體制造，用於矽基、外延或多晶膜的沈積。概念3 Altus是為了提高現有的CVD反應堆能力而開發的，重點是最大限度地提高能力、靈活性和吞吐量。反應堆系統的創新特點包括其獲得專利的雙室設計，優化了機組的吞吐量。機器設計的基礎是獲得專利的雙室技術（DCT），采用多區域布局拓撲。這種安排允許兩個獨立自調整的微型腔室在主腔室內共享表面積，從而更有效地利用反應腔室空間。通過劃分反應室,NOVELLUS Concept 3 Altus利用了許多寶貴的工藝能力,同時減少了所需的工藝步驟數量。通過在一個反應區內結合氣體淬火和反應性再生，消除了沈積過程的不均勻性和不可重復性等許多典型的CVD反應器挑戰。概念3 Altus配備了許多其他功能，旨在最大化反應堆和工藝性能。該工具能夠執行高溫汽化和預濺射等高級工藝步驟，以提高膜的均勻性和工藝的可重復性。此外，資產配備了獨特的氣體混合能力，使兩種工藝氣體能夠以精心調節的方式合並，進一步提高了工藝的準確性和可重復性。NOVELLUS Concept 3 Altus的高級功能,加上強大的設計,使其能夠在業界標準的CVD平臺中提供卓越的性能和可靠性。與傳統的CVD系統相比,Concept 3 Altus利用獲得專利的Dynamic Chamber Technology提供了卓越的吞吐量和薄膜均勻性。此外，反應器模型還利用氣體混合、高溫汽化、預濺射等多種先進特性，優化了沈積過程的性能。總體而言,NOVELLUS Concept 3 Altus是一款創新的CVD設備,可提供最佳性能、靈活性和吞吐量。