二手 NOVELLUS Concept 3 Inova #293638672 待售

NOVELLUS Concept 3 Inova是一種多工具、六室半導體反應器，設計用於三維集成電路的高級蝕刻、沈積、植入和退火工藝。它結合了廣泛工藝能力的靈活性和能夠6kW電力輸送的大型腔室設計。Concept 3 Inova采用了專利的漂移補償室幾何形狀,旨在提供等離子體均勻性和功率密度,同時針對高通量和高產工藝的最佳結果進行優化。模塊有幾種掃描模式，允許用戶自定義工藝腔，以達到最佳效果。NOVELLUS Concept 3 Inova可以支持單晶片和晶片到晶片集群的配置。它有一個水平載荷鎖，能夠分別容納多達13和28個均勻的200 mm或300 mm晶片，使其實現高生產率和效率。負載鎖定還采用了銷釘回收技術，減少轉移過程中積累的任何靜電荷，以盡量減少輻射引起的粒子效應。概念3 Inova的蝕刻工藝包括濕法、幹法和等離子體蝕刻工藝。幹蝕刻系統可以提供高選擇率,具有不同的配置,以適應廣泛的材料、特征大小和工藝層。濕蝕刻工藝提供了額外的靈活性和較低的成本效益,但需要額外的工藝控制才能獲得高精度結果。等離子體蝕刻系統具有很高的吞吐量，特別適合大批量使用。FECVD和PECVD系統也包含在NOVELLUS Concept 3 Inova中。前者在低電耗的情況下提供了強大的沈積能力，而後者則為大多數材料提供了標準的工藝選項，如矽PECVD、氮化物PECVD和氧化物PECVD。Concept 3 Inova還包括可配置為滿足從低溫退火到高溫退火的一系列工藝要求的晶度系統和退火系統。它還提供了一系列可配置的光束能量和植入幾何圖形的植入能力，以達到最佳的犧牲晶片質量。為了便於持續的過程監控，NOVELLUS Concept 3 Inova包含了一個車載診斷系統。這包括一系列用於測量所有關鍵參數的傳感器，以及復雜的跟蹤和反饋控制。它還包括各種原位氣體分析選項，允許用戶在過程周期中檢測和分析潛在的破壞性顆粒。