二手 NOVELLUS Concept 3 Inova #9281509 待售

NOVELLUS Concept 3 Inova是一種支持等離子體的化學氣相沈積（CVD）工具，設計用於在各種底物上高調、原位等離子體輔助的薄膜層沈積。它是專門為各種底物上的先進薄膜沈積工藝而開發的，不需要任何額外的沈積後處理步驟。Concept 3 Inova配備了獲得專利的「ZoneLock」技術,該技術可提供溫度精度和控制,以實現跨多個晶圓的廣泛的過程分析功能。CVD反應器由三個不同的室組成：一個引入室、一個工藝室和一個處置室。引入室用於預制基板，而加工室則是主要加工區域，材料暴露在高溫反應堆和加工氣體中。處置室用於安全處置未反應的反應物、煙霧和副產物氣體。NOVELLUS Concept 3 Inova的動態反應環境由獨特的「等離子帶」技術創造。這是一個超活性氣化帶，底物和反應物在高能等離子體場中沐浴，使得材料能夠精確反應和沈積。反應性氣化，如氟和氧氣，是通過高度調節但動態的超音速射流產生和控制的。先進的等離子體區域控制技術還可以實現優於復雜特征幾何形狀的摻雜控制和均勻沈積。Concept 3 Inova還有一個特殊的旋轉設計，進一步增強了跨層的均勻性。旋轉式設計提供了廣泛的基材尺寸，可以支撐直徑達300毫米（12英寸）的晶片。整個系統被封裝在一個環境室中，該室設計用於在整個沈積周期中嚴格的精度和控制。NOVELLUS Concept 3 Inova CVD系統匯集了幾種最先進的技術，提供具有卓越統一性和過程控制的世界級沈積。這種CVD反應堆擴展了NOVELLUS系列產品的功能,並為用戶提供了一種經濟高效、可靠的過程,從而實現了先進的設備制造。它是各種基板上精確沈積應用的理想選擇，如超導半導體材料、精密光學、微機電系統（MEMS）。