二手 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9294439 待售

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT
ID: 9294439
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
HDP CVD System, 12" 2004 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是一種高速、精密工程的反應器,用於金屬和其他薄膜材料的沈積。該設備設計用於半導體、MEMS和太陽能電池行業,能夠為要求最苛刻的應用提供先進的指標。概念3 Speed NEXT基於低溫、感應耦合等離子體(ICP)源,該源具有低壓氫基等離子體發生器,能夠沈積一系列金屬元素。該系統運行在0.6至0.7 mTorr之間,可實現卓越的過程控制和靈活性。另外,ICP源由於其高斯形等離子體通量而增加了過程均勻性,從而降低了非均勻性的可能性。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT采用緊湊的模塊化設計,在使用各種產品尺寸時具有靈活性。該裝置的特點是配氣機平衡前體比例,以保持均勻的膜生長速度。刀具的自動中心定位功能可糾正生產過程中由於產品輕微運動而可能出現的任何未對齊現象。Concept 3 Speed NEXT由於其「直接註入」沈積技術而具有跨各種產品結構處理高膜步長的能力,該技術采用單一註射源進行更廣泛的塗層。這樣就可以形成具有復雜幾何形狀的離散金屬層。該概念包含了優越的晶圓尺寸可重復性資產,可實現最佳晶圓到晶圓的重復精度,最高可達100個25微米標稱直徑。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT具備最先進的安全和控制功能。它的氮氣屏蔽容器和智能操作員安全功能保護人員免受任何有害的過程材料。該模型還設計用於將由於高級維護監控和診斷功能而導致的過程停機時間降至最低。這種先進的技術提供了極致的速度和精度。由於概念3 Speed NEXT先進的沈積控制,可獲得高質量的結果和優越的層均勻性。該設備旨在提供可靠和準確的沈積工藝,以最大限度地提高產量和吞吐量,同時保持低成本。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是任何要求苛刻的薄膜塗層應用的完美解決方案。
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