二手 NOVELLUS CONCEPT One-200 #293763726 待售
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ID: 293763726
晶圓大小: 8"
優質的: 1992
PECVD System, 8"
Process: SiO2 / TEOS
Gas: N2, O2, C2F6
EBARA AA10 Pump
EBARA AAS200WN
Transformer
Power system
1992 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One-200是一種獨一無二的革命性蝕刻/dep工具,適用於先進的技術節點。它專為尖端集成電路（IC）設備和芯片的大批量生產制造而設計。此蝕刻/dep工具實現了優越的晶片內和跨晶片均勻性,從而獲得了出色的最終設備性能、產量和可靠性。設備采用等離子體反應離子蝕刻（RIE）和金屬沈積（CVD）技術，利用高濃度等離子體蝕刻沈積材料。等離子體是由大功率源產生的，它允許對蝕刻過程進行更精確的控制，允許在IC的特定區域進行更深、更均勻的蝕刻。等離子體還有助於更精確地沈積材料，從而形成更薄、更均勻的金屬層。該系統還具有先進的晶片處理單元，使用精密的機械臂精確地移動和旋轉晶片，允許精確的位置調整，並在晶片向工藝室轉移時提供等離子體種類非常低溫的冷凝。這有助於提高材料的均勻性,並允許更高的層數和改進的設備性能。CONCEPT One-200采用模塊化設計，由三個過程室、一個轉移室和一個次大氣過程室組成。這樣就可以在三個工藝室中的每一個中的單個晶片上同時沈積和蝕刻,從而提供高效和經濟高效的制造工藝。該工具還能夠同時管理多個晶片，從而增加了機器的吞吐量。該工具還具有先進的冷卻資產，用於調節腔室內部的溫度，並確保整個晶片的工藝條件一致。這有助於減少顆粒汙染，甚至可以延長蝕刻/剝離工具的壽命。總體而言,NOVELLUS CONCEPT One-200是一種革命性的蝕刻/dep工具,它可以將IC的大批量生產制造提升到一個新的水平。它提供了卓越的均勻性和產率，同時允許多個晶片並行處理。先進的晶圓處理模型和模塊化設計有助於進一步提高其效率和成本效益。
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