二手 NOVELLUS CONCEPT One #86630 待售
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ID: 86630
CVD system, 6"
Wafer type: Major flat
Load lock chamber: Metal cassettes (3)
Vacuum system: External heated valve stack
Vacuum system: MKS type 652 throttle valve controller
Vacuum system: LL diffuser
Vacuum system: Digital LL pressure controller
Electrical system: Megapack power supply
Electrical system: NOVELLUS robot motor upgrade
Wafer spindle mechanism: Ferrofluidic seal
Wafer transfer mechanism: Non contact pin search
Wafer transfer mechanism: WOPS
Wafer transfer mechanism: Ucontainmation
Software: 4.333
End point detector: Single Verity endpoint model PM100
Control system: ELO touchscreen
Gas system: N2O upgrade
Gas system: Methane saver
RF system: Trazer match AMU201, HF ENI OEM-28B, LF
Top plate: Ceramic gas tube
Top plate: T-slot spindle upgrade from McDowell
Kalrez 9100 O-rings: 3 per Showerhead 2-012, 2-020, LL door 2-36
Software: 4.433
Robot: One arm
RF generator: ENI (OEM-28B and PL-2HF)
RF matching unit: Trazar (AMU2-1)
AC remote: NOVELLUS
Supporting equipment:
Remote power box / transf PL-2HF: Generator rack
PFC abatement system
Remote pwr / transformer OEM 28-B: Generator rack
Pumps / pumps support IQDP80 / QMB 1200: Dry
Pumps / pumps support QDP80: LL pump
Gas detection
Hook up regulators / valves
Heat jacket (For NV5 thru 8)
Gas box / Chem distribution: TEOS / TMP Sigma 6 cabinet TEOS Cabinet
Chiller / heat exchanger
Automation part
Gas box configuration:
Gas 1: Nitrogen (A1)
Gas 2: SiH4 (A2)
Gas 3: N2 (B1)
Gas 4: NH3 (B2)
Gas 5: C4F8 (B3)
Gas 6: O2 (B4)
Gas 7: N2O (B5)
Gas 8: CDA
Gas 9: TEOS
Gas 10: TMP.
NOVELLUS CONCEPT One是下一代共濺射反應器，提供高性能、高選擇性和低成本的薄膜沈積。這種化學氣相沈積（CVD）工具能夠擴大先進基板的尺寸範圍，使其成為制造厚度在2至500納米（nm）之間的裝置結構的理想選擇。它旨在創建高質量的圖層,並啟用一系列處理選項,如定向蝕刻或全方位蝕刻。NOVELLUS CONCEPT ONE的專利工藝通過單個噴嘴在垂直和水平方向上提供均勻的沈積。這允許創建一個高度均勻，均勻的薄膜，甚至跨越復雜或復雜的圖案底物。使用定向濺射而不是隨機轟擊，導致表面地形質量明顯高於其他CVD工藝。因此,CONCEPT One非常適合需要精密薄膜元件制造的應用。反應堆提供靈活的底物裝載和加工選項，使各種快速的表面清潔、蝕刻、沈積和平面化方法成為可能。通過NOVELLUS最先進的工藝控制軟件和集成的專有壓力技術,可以提供清晰、穩定的工藝條件。其可定制的自動化功能降低了新客戶的流程開發成本,並縮短了他們的整體周期時間。CONCEPT ONE利用其節能的模塊化設計來節約能源、減少排放和盡量減少危險廢物產品，從而促進了晶圓加工的「綠色」方法。反應堆的直接熱管理技術精確控制了工藝溫度，降低了部件損壞的風險。此外，CVD系統提供了一個集成的面板清潔解決方案，以減少薄膜積聚和排出汙染顆粒，而其低壓選項降低了化學氧氣汙染的風險，提高了整個過程的穩定性。最後,NOVELLUS CONCEPT One提供了卓越的表面質量、寬廣的尺寸範圍以及靈活的加載和處理選項,同時促進了晶圓處理的綠色節能方法。其集成且可定制的自動化功能支持快速的工藝開發和經濟高效的生產,使其成為一系列薄膜元件制造應用的理想解決方案。
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