二手 NOVELLUS CONCEPT One #9270391 待售
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ID: 9270391
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
CVD System, 8"
Process: Tungsten
Pentium 166 Computer
Front monitor
Front keyboard
Keyboard switch
Valve monitor
Signal tower
Gas valve monitor
EUROTHERM S08 Controller
No showerhead at station 0
Showerhead at station 1
Showerhead at station 2-5
Chamber:
Centering station
Pedestal 1
Pedestal 2-5
Ring hit assembly type: Ceramic tongs
Spindle type: Direct drive
Chamber view ports
No endpoint detector
TRAZAR AMU2-1 RF Marc bins network
KVOSAN RFK30-STI RF Generator
Module / System designation: CP1WV51
Vacuum system
TYLAN GENERAL Throttle valve controller
TYLAN GENERAL (Non heated) Throttle valve
Gate valve: VAT (Non heated)
TYLAN GENERAL 100 Torr manometer
TYLAN GENERAL 10 Torr manometer
TOKYO SEIDEN A-V Trance
Gas box configuration:
A1: Ar
A2: SiH4
A3 H2
A4: No
B1: Ar
B2: WF6
B3: C2F6
B4: N2
B5: N2
CI: Ar
1995 vintage.
NOVELLUS Concepts One（NC1）設備是由NOVELLUS Systems Inc.它是外延氧化反應堆Concept系列的一部分。該反應器提供了廣泛的工藝能力，包括外延沈積、氧化和光致抗蝕劑剝離。NC1設計用於處理具有高均勻性和可重復性的半導體基板。NC1系統采用先進的腔室結構，由兩個反應腔室並排組成，位於一條軌道上。兩個反應腔通過一個共同的氣體歧管和外部暴露的離子源相連。這種獨特的安排允許在多個過程步驟中實現高度的控制和統一。反應堆能夠產生厚度最大為2毫米的非常均勻的沈積層，並具有極好的臺階覆蓋。NC1單元使用一種特殊的高性能軟件機器,稱為高級流程控制（APC）軟件包。APC工具提供了先進的過程控制能力，允許精確控制過程參數，如腔室壓力、溫度、沈積速率和氣流。這使得反應堆可以針對廣泛的應用進行優化。NC1資產的設計目的是在各種氣體化學和壓力下運作。這允許在塗層工藝中使用多種材料，包括高級矽、和氮化物。它還允許使用專門的介電層和氧化層，從而實現更大的工藝靈活性。反應堆能夠達到高達萬分之四埃（4 x 10-10）的極佳均勻性和重復性。這與APC軟件包的靈活性相結合，使NC1模型成為市場上最先進的沈積和氧化系統之一。NC1設備采用高檔不銹鋼和惰性氣體環境構成，有助於提高操作安全性，確保系統使用壽命。該單元還受到大量警報和安全聯鎖的保護,這些聯鎖會將任何過程或安全異常通知操作員。NC1機是一種先進可靠的沈積氧化工具.它具有出色的工藝控制、可重復性和準確性,非常適合廣泛的高性能半導體制造應用。
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