二手 NOVELLUS Inova NExT #9163189 待售

NOVELLUS Inova NExT是革命性的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）平臺。它旨在為高性能薄膜在半導體基板上的沈積提供先進的綜合工藝。該平臺能夠提供卓越的薄膜沈積功能,具有無與倫比的精確度、高吞吐量和出色的可重復性。Inova NExT是一種多源多目標PECVD設備，允許精確、快速和高效地沈積介電膜和導電膜。它具有幾種新穎的技術，包括專利的高密度等離子體技術、多源技術和優化的基板溫度控制。這些技術使系統能夠為沈積具有優越膜質量的薄膜和導電膜提供最大性能和高均勻性。該單元結合了許多技術來提供先進的線性精確控制層他們薄膜。例如，其獲得專利的高密度等離子體技術使其能夠以極其復雜的步驟和模式沈積密度和電導率完全不同的層，從而為先進的集成電路和其他應用提供潛力。此外,該機器還提供出色的基板溫度控制,使電介質層能夠在低於200°C的溫度下精確沈積。這種能力的一個主要好處是，它可以沈積高可擴展性和長期在高溫下保持穩定的薄膜。NOVELLUS Inova NExT還為高級金屬沈積工藝提供了明確定義的金屬、氧化物和氮化物的卓越覆蓋範圍、均勻性和保形性。它包括先進的反應性氣體分布、精確的溫度控制和多源能力，以生產具有良好邊緣附著力的均勻層，甚至在緊彎處也是如此。總體而言，Inova NExT是一種先進的PECVD工具，提供精確、快速和高效的介電和導電膜沈積，具有優越的薄膜質量和無與倫比的溫度控制。它具有極好的可重復性、均勻性和覆蓋率，可用於各種先進的金屬沈積工藝，使先進的集成電路和其他應用成為可能。