二手 NOVELLUS Inova #9223198 待售

製造商
NOVELLUS
模型
Inova
ID: 9223198
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
PVD System, 8" 1999 vintage.
NOVELLUS Inova是一種化學氣相沈積(CVD)工具,用於在半導體晶片上沈積薄膜,用於先進的微電子器件制造。它是實現薄膜精確、均勻和可重復沈積的強大工具,對於提供具有最小缺陷的高性能半導體組件至關重要。Inova由一個機器人手臂、一個反應堆室、一個加熱的擴散屏蔽層以及相關的過程氣體輸送線如氫氣和含矽氣體組成的淋浴頭反平衡。噴頭是一個雙面、電子束加熱、絕緣兩位臺,溫度傳感器嵌入其絕緣底座。機器人臂是一種五軸裝置,在x、y和z方向上移動,以及旋轉和樞軸。它連接到淋浴頭,用於直接從自動基板存儲系統和過程傳輸系統加載晶片。反應堆室為電拋光不銹鋼殼體,帶有O型密封波紋管式氣閘門。安裝在腔室內部的擴散罩包含一個抗熱環,用於對基板表面進行精確而均勻的加熱。屏蔽層還塗有碳化鈦,以保護其免受環境影響,並進一步增強基板表面的均勻溫度循環。NOVELLUS Inova是一個對沈積過程進行精確控制的自動化系統。內置運動控制器有助於確保基板的高度精確加熱和多個晶片的均勻沈積。工藝氣體管線負責供應在基板上制造薄膜所需的揮發物。矽烷(SiH4)和二氯矽烷(SiH2Cl2)是該平臺反應生成二氧化矽(SiO2)薄膜時使用的主要氣體。這些反應物氣體被註入反應堆室內,在底物表面進行原位化學反應。在伊諾瓦使用一系列壓力和質量流量控制器控制氣體輸送。一旦基板預熱至最佳溫度,反應物的恒定流動被激活,並使用擴散屏蔽和運動控制器施加有限的溫度循環。NOVELLUS Inova是一款功能強大、精密的沈積工具,其自動化操作可實現跨多個晶圓的重復和均勻沈積。它是現代半導體制造中必不可少的工具。
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