二手 NOVELLUS / LAM Sabre Next 200 #293590631 待售

NOVELLUS/LAM Sabre Next 200是針對集成電路（IC）制造優化的等離子增強低壓化學氣相沈積（PE-LPCVD）反應器。它旨在實現高達200晶圓/小時的過程吞吐量,負載鎖定容量為200晶圓。它具有多區低壓蝕刻室，用於控制多晶矽和其他具有高介電常數層的材料的蝕刻。LAM Sabre Next 200采用4英寸晶圓尺寸,基於Ultima平臺,具有增強的直流電源和改進的腔室匹配技術。氣體輸送和控制設備的設計使高質量材料能夠有效沈積。該工藝室配備了轉盤和超聲波技術，以及精密激光系統，以實現均勻、高質量的晶圓蝕刻。NOVELLUS Sabre Next 200還提供高空控制精度，12位編碼器單元在晶圓級實現0.2微米的分辨率。它有一個可選的冷卻板功能，使溫度臨界材料的發展。此外，反應堆可以配置溫度範圍高達600°C的熱塑性或陶瓷加熱級。Sabre Next 200具有兩種不同的蝕刻工藝，即PE-LPCVD和輝光放電氧化。等離子體增強版利用氧氣、氮氣和/或矽烷控制蝕刻速率。輝光放電氧化工藝可提高摻雜多晶矽沈積速率，優化厚度控制。NOVELLUS/LAM Sabre Next 200還配備了專利的、原位金屬升降機，使過程控制更好。Sabre Insight 200的高級控制工具允許操作員實時監控流程參數。這一先進的HMI資產與廣泛的配方庫集成在一起，可以適應未來的技術。此外，反應堆采用開放式架構設計，使其能夠輕松與現有工廠生產管理和設計自動化系統集成。LAM Sabre Next 200是一種創新、先進的反應堆，非常適合大批量的IC生產。它旨在通過高質量的介電蝕刻技術實現高水平的工藝吞吐量,用於與工藝相關的材料。NOVELLUS Sabre Next 200提供了先進靈活的控制模式，允許與現有設施控制系統輕松集成，提供了提高生產效率的絕佳機會。