二手 NOVELLUS Sabre Next 200 #9378024 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9378024
晶圓大小: 6"
優質的: 2012
Copper electro-plating system, 8"
Proteus
QN
User interface: Side panel
(2) System controllers: MC3
Process type:
Low acid
Signal tower: (3) Colors
GEM
HOST Connection type: RS232
Chase computer
Bottom exhaust kit
Bottom drain kit
Input voltage: 208 VAC 50/60 Hz 100 Amps
Anneal module:
Cassette hander
(2) Loadports
Robot type: AccuTran 7
Robot firmware: 1.4 l
(5) Anneals
Anneal H2 gas concentration: 100%
Process module:
Wafer aligner: Dual sensor with Pneumatic
Robot type: BROOKS AUTOMATION AQR7
End effector: SST with vacuum (Dual EE)
Wafer handler:
Robot type: AquaTran 7
Robot firmware: 1.8 E
Cell configuration:
Cell 1, 2 & 3:
Clamshell type: Double pressure Non MCD
Clamshell cup type: PPS
Clamshell lift: IAI
Clamshell cylinder configuration: Pressure vacuum cylinder
Anode chamber: SAC
(2) TI Cables
SAC
SAC Pump
Rinse type: Standard
Chuck type: PPS
EBR size: 5 mm
CCR ACRPEM Configuration: PEM1
CCR ACRPEM Configuration: PEM2
CCR ACRPEM Configuration: PEM3
Chemical Monitor System (CMS)
Chemical Delivery System (CDS)
Water chiller type: NESLAB HX-75 or HX-300
2012 vintage.
NOVELLUS Sabre Next 200（SN200）反應堆是為半導體加工應用而設計的多功能沈積設備。它結合了工業強度物理氣相沈積（PVD）室的優點和化學氣相沈積（CVD）系統的精確度。典型的應用包括金屬、氧化物和電介質的沈積，在半導體晶片上產生電路模式和結構。該SN200的設計考慮了沈積質量。該SN200的兩區高速線性傳輸單元具有較高的吞吐量和可重現的效果。該腔室具有較大的目標面積，能夠達到6 cm3/min的沈積速率，適合大面積晶片的高效調理。該室配有粒子傳感器，允許對加工環境中的粒子含量進行可靠的監測。反應堆還提供嚴密的溫度和流量控制，使用戶能夠在晶圓表面上實現均勻的保形層沈積。SN200中的質量流量控制器采用先進的閉環算法，以確保對反應性氣體流量和溫度的精確控制。這樣就可以輕松優化復雜應用程序的過程條件。該SN200具有可編程的氣溶膠（外淋浴環），可測量多達8個散射點，以幫助最大限度地減少顆粒汙染。雙法拉第屏蔽和低慣性磁鐵提供有效的火炮屏蔽，防止雜散電子損壞晶圓。雙目標查看端口在處理過程中提供了目標及其粒子的出色可見性。該SN200為要求苛刻的沈積過程提供了卓越的性能和可靠性,包括精密門氧化物、光致抗蝕劑和Cu/屏障堆棧沈積難題。該機設計為滿足F類（最嚴格的）潔凈室要求，提供了有利於生產先進半導體器件的超清潔環境。該SN200通過其高的沈積速率、精確的溫度和流量控制以及有效的屏蔽，提供了成功制造設備所需的可靠和高產的結果。
還沒有評論