二手 NOVELLUS Sabre XT #9058226 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9058226
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
ECD Plater, 8"
Model #: C2-Sabre
Integrated frame
With (3) plating modules
Phase 3 anode chamber
8" Clamshell drive unit
196 mm Clamshell cup and cone (Phase 1A ceramic cup)
Pulse plating capability
AE Pulse power supply
(3) Additive dosing systems with nowpak
Bath chemistry control algorithm
Central bath reservoir (150 L)
(3) Post-Electrofill modules
Edge bead removal (EBR)
(5) Chambers anneal capability
50-400 C, H2/Forming gas
BROOKS (4) Axes atmospheric dual-end effector robot
BROOKS Accutran front-end robot
Main power panel
Secondary containment
With splash guards and leak detection
Dual waste stream plumbing
Pentium-based CPU
Graphical user interface (GUI)
SECS/GEM compatibility
Currently crated
1999 vintage.
NOVELLUS Sabre XT是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於半導體制造業。它利用基於盤片的設計與專有的增強CVD （ECVD）工藝相結合,以實現目標薄膜的高均勻性和吞吐量。NOVELLUS SABREXT的優化拼盤設計由兩臺相對的VTEC熱電冷卻器構成，允許在狹窄的目標範圍內實現最佳性能和溫度調節。該拼盤還被一種耐腐蝕材料覆蓋，在操作過程中保護其內部部件。Sabre XT的ECVD工藝在100°C至400°C的單室真空環境中運行。在操作過程中，系統將矽烷氣體和氨等反應物註入反應堆室內，以及通過旋轉火炬的反應性氣體前體，精確地分配進入的氣體混合物。這種旋轉的火炬允許在腔室內實現高精度的薄膜沈積均勻性，其中目標厚度和均勻性是通過若幹光學監測系統收集的。SABREXT還集成了幾種先進的過程監測功能，包括一個連續反饋系統，使其能夠精確控制反應物氣體的流動和混合。這使NOVELLUS Sabre XT能夠自動調整設置，以實現目標薄膜更均勻的沈積，並使其能夠監測反應堆環境中的任何潛在汙染。NOVELLUS SABREXT的多功能性和可靠性使得它成為需要大批量生產且工藝和薄膜均勻性可靠的半導體制造應用的首要選擇。其固態操作確保了現代芯片組和其他半導體產品生產的低維護和經濟高效的解決方案。此外,Sabre XT的耐腐蝕拼盤設計和易集成到各種CVD系統中,使其成為全球領先芯片制造商的理想選擇。
還沒有評論