二手 NOVELLUS Sabre #9105124 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
NOVELLUS佩刀反應堆是一種化學氣相沈積(CVD)反應堆,設計用於半導體制造過程。它是一個專門設計的CVD反應器,能夠將厚度低至單埃(0.1 nm)的薄膜沈積到半導體晶片上。反應器用於沈積難以沈積過渡金屬、聚合物或其他介電材料等材料。佩刀反應堆由幾個組分組成,構成了完整的沈積系統。主要成分包括上腔、工藝室和下腔。該系統是一個垂直、低壓的CVD反應堆,采用分批處理的方法,可以沈積多層,所有這些層都受到嚴格控制,以獲得其獨特的薄膜厚度所需的精確參數。它能夠處理多達8「和12」晶片。上腔配有加熱石英敏感器籠,在沈積過程中為晶片提供均勻加熱,確保整個過程保持精確的化學計量。加熱的感光器籠也被用於蒸發源材料,其汽化和isSource材料汽化促進源材料的升華或熱分解,然後沈積在基板上。加熱的接收器籠連接到比例積分導數(PID)控制器,這有助於確保加熱器溫度的最佳均勻性。這取決於具體的沈積工藝要求而增加或減少。該工藝室裝有惰性氣體混合物,用於容納在CVD工藝過程中沈積在晶片上的化學物質。一個噴嘴位於真空室的中心,用於將前體和反應物引入腔內。沈積區與擴散泵相連接,可以精確流動和操縱成功沈積過程所需的氣體。下腔用於排出反應產物,也連接到擴散泵上,用於在沈積過程中保持精確的化學計量。它還有助於將任何剩余的反應物從腔室的環境中撤離。NOVELLUS Sabre是一種高精度的CVD反應器,旨在以極薄的薄膜方便材料沈積。它能夠產生所需的層,並具有準確和可靠的結果,這使得它成為半導體制造過程中的寶貴工具,從而能夠創造出卓越的半導體產品。
還沒有評論