二手 PICOSUN P-300BV #293769705 待售

製造商
PICOSUN
模型
P-300BV
ID: 293769705
晶圓大小: 6"
優質的: 2021
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor, 6" Cold source: TMA, H2O TEMAHF Hot source Film type: Al2O3, HfO2 2021 vintage.
PICOSUN P-300BV是業界領先的超高空真空(UHV)原子層沈積(ALD)反應堆。P-300BV由世界領先的ALD設備供應商PICOSUN設計制造。設備使用電子束作為薄膜生長的動力源。PICOSUN P-300BV占地面積很小,非常適合在有限的實驗室空間內安裝。它還具有先進的光學實時監控系統,以便對過程進行精確控制。該裝置還提供低工藝溫度和優良的薄膜均勻性。P-300BV適用於在超高真空中沈積復合金屬氧化物、氮化物、薄膜堆叠的纖薄均勻層。PICOSUN P-300BV是一種高效率的機器,能夠使用各種工藝技術,如熱和等離子體ALD。該工具包括一種反應性氣體註入資產,允許根據氣體前體和底物之間的精確化學反應沈積薄膜。P-300BV是為了提供最大的工藝效率和均勻性膜質量。該型號配備了多功能腔室設計和可提供受控劑量前體材料的噴射器設備。該系統還具有一個集成的機器人處理單元,便於精確的樣品定位。此外,該機還具有高精度的背面視圖原位光學監控工具,可實時測量膠片質量。PICOSUN P-300BV還提供了一整套軟件工具,可用於監測和控制溫度、壓力、流量和薄膜厚度等沈積過程參數。這些軟件工具可用於優化工藝參數,以創建統一、高質量的薄膜。最後,P-300BV設計方便維護和操作,具有廣泛的安全功能,以確保資產的性能。PICOSUN P-300BV旨在為各種ALD流程提供可靠和可重復的性能。憑借其先進的特性和強大的性能,P-300BV是任何超高真空ALD工藝的絕佳選擇。
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