二手 PICOSUN R-200 #293618159 待售
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ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges
(2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets
SH-200 Sample holder
Substrate holder, 8"
PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source
Heated sample stage: Up to 750°C
Mesh cradle MC200 for 3D samples
Trough porous sample holder
Controller
Touch panel PC
Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2)
Precursor sources:
(3) Picosolutions
(2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C
Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C
(2) Picogas connections for thermal ALD
(2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas
O3 System: PZ-100 Picozone
PF-200 Diffusion enhancer
Chemical precursors:
Type / Element / Chemical
Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade
Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium
Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD
Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl
Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride
Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide
Picohot200 / Ti / Titanium methoxide
Substrate loading:
Picoloader
Slit gate valve, 8"
Load lock
Manipulator
N2 Purge assy for load lock purge
Vacuum pump:
EBARA ESA70WD Dry vacuum pump
Flow rate: 420 m³/h
2-Stages pneumatic valve
Afterburner and mechanical foreline particle traps
Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN™ PICOSUN R-200是一種先進的ALD（原子層沈積）加工設備,專為工業生產規模的高均勻性和高通量表面塗層應用而設計。該系統旨在滿足各種應用的反射面、保形面、光學塗層和薄膜等工業和研究應用的高質量要求。PICOSUN™ PICOSUN R 200反應堆基於模塊化體系結構,允許靈活性和可擴展性,允許用戶根據其特定的應用需求定制設備。該機器可配備各種標準元件，並重新編程以滿足獨特的客戶要求。R-200反應堆的主要部件包括發電機、反應物、反應室、底物支架和廢氣。發電機以準確的量向反應室供應反應性氣體，確保塗層過程中的高可重復性。真空排氣工具在每個循環後都會去除反應副產物，從而實現快速的工藝時間和可靠的結果。R 200反應堆具有緊湊且無維護的設計，易於安裝，需要最少的維護。反應室和基體由高質量的不銹鋼制成，旨在保證清潔度和耐用性。PICOSUN™ PICOSUN R-200反應堆專為大規模生產而設計，能夠塗覆200毫米和1000 x 1500毫米尺寸的基板。它提供高吞吐量功能,最大腔室負載高達80%, ALD循環時間長達59秒。它提供高均勻度的薄膜生長，腔室均勻度小於± 2%，厚度均勻度± 1 nm。PICOSUN R 200反應堆能夠處理陶瓷、金屬、復合氧化物、氮化物和日耳曼化物等多種薄膜。它為要求很高的塗料行業提供了快速、可靠和可重復的薄膜增長。該資產適合各種研究和工業應用，為所有表面塗層應用提供優越的薄膜質量、可重復性和性能。
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